二手 AMAT / APPLIED MATERIALS DPS II AE G3 #9301026 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS DPS II AE G3 Asher and Etcher是一種先進的半導體加工設備，用於形成電子工業中的關鍵元件。該設備使用等離子體蝕刻和灰化技術在包括玻璃、矽膠和金屬在內的一系列基板上創建超精細圖案和結構。G3型號的加工室最大可達600mm,最多可容納八個板材。該系統采用集成工具（IT）平臺進行工程設計，該平臺將單元的各種組件組合為一個設備，並允許操作員通過單一接口控制整個機器。AMAT DPS II AE G3 Asher和Etcher利用多項專利技術實現了有效、均勻的等離子體處理。設備的等離子體浸入離子技術（PIIT）可以降低成本和加快蝕刻速度,而內部自組織來源（ISSO）有助於實現更大的視野和精確的模式。G3型號包括一個創新的電源模塊和一個先進的數字控制工具，它提供了對整個過程的精確控制。APPLICED MATERIALS DPS II AE G3 Asher and Etcher是一種可靠高效的資產，旨在承受各種條件。其創新的Shutterless Etcher允許蝕刻氣體快速冷卻，消除環化物損傷，提高工具穩定性。該型號配備了在線能源監測設備，以幫助隨時跟蹤和監測過程。這一先進的系統提供了利用各種化學和氣體創造各種精細模式和結構的靈活性。DPS II AE G3支持反應性氣體，如O2、CF4、CHF3、H2，以及蝕刻氣體，如N2、Ar、He、Xe。AMAT/APPLIED MATERIALS DPS II AE G3還具有廣泛的工藝參數，包括溫度、壓力和電壓，可以根據任何應用的需要量身定制。AMAT DPS II AE G3 Asher and Etcher是一個功能強大、可靠且用途廣泛的單元，旨在滿足當今電子行業的需求。通過其先進的控制機器，G3模型可以實現精確的過程控制，確保每個基板上的結果一致。創新的Shutterless Etcher特性結合其廣泛的工藝參數，允許快速、均勻的蝕刻和灰化，而不會對基材造成損壞的風險。APPLICED MATERIALS DPS II AE G3是那些希望在最惡劣的環境中創建復雜模式和結構的人的理想工具。