二手 AMAT / APPLIED MATERIALS G5 #9263764 待售
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ID: 9263764
System
(3) A-Si Process chambers
Substrate size: 1100 mm x 1300 mm
(3) Susceptors : Temperature <230°C
(3) Load locks: DSSL
Dual arm vacuum robot
(3) MKS RPSC
EDWARDS Neptune Abatement
(3) RF Generators: 40 MHz (4KW)
(3) Gas panels: NF3, Ar, N2, SiH4, H2, PH3, B2H6
J&R AUTOMATION Loader
Includes:
(2) Abatement systems
Power supply rack
Transformer
Heat exchanger
Exhaust fan module
Gas panel module / Rack
Main AC cabinet
Remote AC cabinet
(3) PECVD Process modules
Loadlock Module
Monolith module (Transfer chamber)
Robot
Robot enclosure (with misc, panels and trays)
Robot substrate storage module
Loader modules
(2) Loader controllers
Wafer cassette loader
Vacuum forelines
Piping
Seismic brackets
Pump racks
Umbilicals
Brackets
Crane adapter
Does not include:
(3) EDWARDS iXL500Q Pumps
(3) EDWARDS iXH3030 Pumps.
AMAT/APPLIED MATERIALS G5是一種精密蝕刻/灰化工具，用於半導體制造和封裝。它是為高效的光刻圖案、蝕刻和灰燼清洗而設計的。AMAT G5采用多合一設計,具有易於使用的用戶界面和高吞吐量能力。它還配備了低功耗和低維護設計，以及多種可定制的處理選項。APPLICED MATERIALS G5提供半標準及寬闊的底層製程腔室，使其適合各種蝕刻/灰化製程要求。它基於射頻（RF）和等離子體源,能夠同時進行蝕刻和灰分清潔,從而在薄層介電材料中產生明確的圖樣。其可控變頻27-250kHz範圍使微米級精度特征的蝕刻更加可靠、準確。此外,G5還提供卓越的晶圓吞吐量和工藝一致性.它具有嵌入式晶片盒和集成的自動加載端口,旨在確保晶片傳輸始終成功。其自動晶片處理系統提供了在10秒內在不同盒式磁帶之間移動晶片的靈活性。其可調晶圓支撐懸架允許處理範圍廣泛的晶圓尺寸。AMAT/APPLICED MATERIALS G5還配備了幾個現場監測功能，可快速檢測和識別低溫和工藝非均勻性。其最先進的氣體分配系統提供精確、均勻的流量控制，以及優越的氣體對基質條件。最後，通過其「熱墻」等離子體密封系統和「主動表面源清潔」功能增強了其內置的安全和汙染防護能力。總而言之,AMAT G5是一種功能強大的蝕刻/灰化工具,用於在薄層材料中可靠地生產精確和高性能的圖樣。其高效率的處理能力和堅固的工程設計使其適合於微型特征的可靠蝕刻/粉刷和較短的周期時間。APPLIED MATERIALS G5還提供卓越的晶圓吞吐量、可靠的工藝一致性以及易於調節的壓力、溫度和氣體流量設置。
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