二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Plasma II #293604234 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS Plasma II Asher/Etcher是一種用於清潔和蝕刻基板的工業設備。該系統由一個密封室、一個電源、控制裝置和一個氣體輸送裝置組成。腔室由氣體循環機冷卻，使腔室保持低溫，有助於防止氧化，並允許改進過程控制。該工具旨在提供精確和可重復的等離子體蝕刻工藝。蝕刻過程涉及利用高頻射頻（RF）能量將一種氣體，典型的是一種加在一起的氙氣、氧氣和氟氣轉化為等離子體。然後將等離子體引向基材，在基材上蝕刻掉雜質，提供幹凈而均勻的表面。AMAT Plasma II Asher/@@Etcher所使用的電源設計為提供高RF能量，並有廣泛的頻率，包括13.56 MHz、2.45 GHz和27 MHz。這允許用戶根據自己的特定需求自定義蝕刻過程。電源還允許用戶設置等離子體功率水平，讓他們控制蝕刻深度。氣體輸送資產用於控制蝕刻過程中使用的氣體類型和數量，能夠輸送高低氣體壓力。這允許對不同的蝕刻過程進行調整。氣體流量是可調的，以及所使用氣體的類型和純度。還必須正確設置控件,以確保根據需要進行蝕刻過程。用戶可以設置各種參數，如工藝時間、氣體流速、等離子體功率和改變工藝條件的屏幕指令。APPLICED MATERIALS II Asher/Etcher能夠產生優異的效果，為用戶提供幹凈、均勻的蝕刻基板，零件之間沒有差異。該型號能夠蝕刻矽、玻璃、石英等各種材料，提供多種用途。它是一種可靠的設備，維護要求低，非常適合研究和工業實驗室的各種蝕刻工藝。