二手 AST / ADVANCED SYSTEM TECHNOLOGY CIRIE-100L #9059489 待售
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ID: 9059489
優質的: 2011
ICP-RIE system, 2"-8"
Specifications:
Chamber Materials: Anodized Al 6061T6
RF Power: 300 ~ 1000 W (Option)
Substrate Temperature Control: RT ~ 400℃
Wafer Numbers / Size: (30 -1) pcs / (2"- 8")
Gas Lines with MFCs: 6 Standard Lines
Reactor Base Pressure: < 1E-3 Torr
Process Pressure Range: From 50 mTorr to 10 Torr
Pumping System: Roots pump + Rotary pump or Dry pump(Option)
Load/Unload (Option): Vacuum Robot Transport
Load-Locks Pumping System (Option): Rotary Vane Pump
Load-Locks base Pressure (Option): < 1E-2 Torr
Non-Uniformity: 5% for WIW, WTW and RTR
Automatic Control System: Industrial PC with Graphic Control Interface
Power Requirement: AC220V, 3 phase, 60 Hz, 80A,
Gas Inlet Requirement: 1.2 kgw/cm2
CDA Requirement: 5 kgw/cm2
Water Requirement: 1.5 kgw/cm2, 20℃, 20 l/min
2011 vintage.
AST/ADVANCED SYSTEM TECHNOLOGY CIRIE-100L 蝕刻器/asher是一種在金屬零件上進行高級蝕刻和灰化技術的精密機器。該蝕刻器/asher具有低壓、均勻、內部的等離子體射流,可用於在一系列材料中同時蝕刻和粉刷組件。AST CIRIE-100L是一臺臺式機,具有精確的臺式和安裝系統,可在蝕刻和灰化過程中提供準確的定位。蝕刻器/Asher能夠實現高達0.0005英寸的蝕刻深度和高達0.001英寸的灰度深度,以及精確的線寬控制和可調節的相移。ADVANCED SYSTEM TECHNOLOGY CIRIE-100L 蝕刻器/asher還配備了高級功能,具有卓越的蝕刻性能和asher性能。這些特性包括靜電自放電、高清晰度波形控制、VCV濾波、高動態範圍控制（HDRC）和軸向控制加速度（ACA）,旨在確保最大精度和重復性,以及改進表面輪廓以高效去除材料。CIRIE-100L蝕刻器/灰化器還配備了先進的安全功能，如幹氮供應傳感器、氣體監測和泄漏探測器，以防止意外排放。蝕刻和灰化過程均由易於使用的開放式平臺軟件套件控制,該套件允許操作員實時監視蝕刻和灰化過程。AST/ADVANCED SYSTEM TECHNOLOGY憑借其先進的安全措施、高精度和高質量的蝕刻和灰化性能,CIRIE-100L蝕刻器/灰化器被設計為一種用於高級蝕刻和灰化應用的可靠解決方案。
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