二手 AXCELIS / FUSION ES3 #9389468 待售

AXCELIS/FUSION ES3是在半導體工業中廣泛用於深亞微米RIE（反應性離子蝕刻）和灰化應用的等離子體設備的蝕刻器/灰度模型。該模型具有寬闊的底座和專門的腔室，旨在減少因環境變化而導致的工藝參數變化。FUSION ES3利用多氣體流量控制設備，采用革命性的逐步「排氣噴射系統」，進一步提高了性能和工藝產量。在等離子體過程中，室內溫度通過一個獨特的垂直熱隔離裝置來穩定，從而進一步提高過程的重復性和穩定性。AXCELIS ES3的關鍵部件是工藝室、電子回旋共振（ECR）源、主動泵送、廢氣噴射機和軟件套件。鋁合金室的設計和建造采用堅固的鰭片結構,可確保較低的熱質量和最大的排氣速度,從而最小化氣體消除循環時間。為了與光刻和真空工具流體兼容，對腔室進行了進一步的設計。此外，該模型還具有先進的ECR源，有助於在整個蝕刻/灰化過程中保持恒定的等離子體條件。主動抽水設備有效地將腔室排空到可接受的壓力水平，並保持與零件速度和負載相關的所需工藝條件。該模型還支持壓力波動最小化的可重復操作。該型號的廢氣噴射設備使用來自廢氣長矛的變頻氣體運行，允許自動控制工藝室內的廢氣密度。此功能有助於保持整個腔室均勻性更好的工藝條件。此蝕刻器/asher的軟件套件顯著減少了設置和處理時間,提供了一個用戶友好的界面,簡化了對過程參數和頻率設置的訪問。它還包括通過「Q Monitor」功能進行的測量和分析功能,該功能有助於跟蹤蝕刻/灰分操作期間的關鍵變量。軟件還會在任何進程參數達到關鍵或不安全限制時向用戶發出警報,以提供對進程的全面控制。總體而言,ES3 蝕刻器/Asher提供了廣泛的基礎選項、設計的腔室、先進的ECR源、主動泵送、排氣噴射和強大的軟件套件,使其成為深微RIE和Ashing應用的強大而可靠的工具。因此，它是半導體行業及相關業務的理想解決方案。