二手 AXCELIS / FUSION Gemini GES AIM #293815341 待售

AXCELIS/FUSION GEMINI GES AIM是一種用於半導體加工的蝕刻器/asher。該設備專為先進的光刻技術而設計，可實現高縱橫比特征的深Si蝕刻。它利用FUSION Gemini高功率ICP源,提供一流的蝕刻速率功能和更高的吞吐量。該系統配有最多六個工藝氣源的輔助氣體單元、三區多晶矽蝕刻室、原位等離子體端點檢測機、精確劑量控制的束導工具。采用先進的冷盤設計,保證晶圓的均勻冷卻.FUSION GEMINI GES AIM的主要優點是能夠將高縱橫比特徵刻蝕進半導體深層，以及高通量能力。資產的ICP源實現最大蝕刻速率能力，這比其他蝕刻系統快得多。利用三區多晶矽蝕刻室和原位等離子體端點檢測模型，實現了亞微米層的精確蝕刻。此外，它的光束引導設備確保精確的劑量控制，允許更深，更復雜的蝕刻晶圓。AXCELIS GEMINI GES AIM還具有高度可配置的控制平臺,使用戶可以靈活地定制和優化其蝕刻過程。該系統的輔助氣體單元為用戶提供最多六個工藝氣源，允許更多變化的工藝參數。此外，該機還采用了寒板等最新的熱管理技術，實現了晶片的均勻冷卻。總體而言,GEMINI GES AIM是一種高級蝕刻器/asher工具,可提供令人印象深刻的蝕刻速率功能和更高的吞吐量。其ICP源允許快速蝕刻高長寬比功能，其可配置的控制平臺為用戶提供了自定義蝕刻過程的靈活性。資產的輔助氣體模型和冷卻板設計確保晶圓的精確蝕刻和均勻冷卻。AXCELIS/FUSION GEMINI GES AIM憑借其先進的功能，是任何半導體生產環境中高效可靠的解決方案。