二手 AXIC Multimode HF-8 #60542 待售
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ID: 60542
Plasma processing systems
For anisotropic and / or isotropic etch
System 110 V, 60 Hz, 15 Amps
220 V, 50/60 Hz, 7 Amps
Pump 110V, 60Hz, l0Amps or 220 V, 50/60 Hz, 6 Amps
H2O For Electrode Cooling [Electrode Dependent]
Air For Valve Operation
N2 For Chamber Vent
Gas Process Gasses.
AXIC Multimode HF-8是一種用於各種研究和工程應用的最先進的蝕刻器和asher。它設計用於在直徑不超過8英寸的晶片上進行蝕刻、灰化和光刻。該設備具有高吞吐量和良好的工藝質量和可靠性,因此非常適合工業和研究應用。該設備以反應性離子蝕刻(RIE)技術為基礎,具有真空室以及若幹輔助部件。其基本系統由真空室、射頻發電機、控制單元和蝕刻/擴散源組成。標準樣本量為150 x 150 x0.25 mm,設備與大多數類型的塑料、金屬和石英基板兼容。此外,它還可以蝕刻和消色基板,小尺寸的特征高達1微米.Multimode HF-8的主要成分包括幾種不同類型的等離子體源,如感應耦合等離子體(ICP)、反應性離子蝕刻(RIE)和激光燒蝕源。這些源提供了一系列蝕刻和擴散過程,以便為不同的應用程序啟用自定義過程。AXIC多模HF-8的可能操作包括結構蝕刻、上層和中層光刻、擴散和離子註入。該裝置具有多種安全特性,如溫度保護和氣體泄漏檢測。它還配備了計算機化的控制機器,能夠實現自動和微調的過程控制。該軟件包允許定制蝕刻和光刻配方,從而提供更大的工藝靈活性。Multimode HF-8提供了一種功能強大且用途廣泛的蝕刻、灰度和光刻工具。憑借先進的等離子體源、可靠的控制工具和一系列安全功能,它提供了快速可靠的處理,同時提供了良好的工藝質量。它適用於工業和研究應用,使其成為市場上最好的蝕刻器和石灰盒之一。
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