二手 BRANSON / IPC RIE #161812 待售

BRANSON/IPC RIE（反應性離子蝕刻）是一種用於制造半導體和微機電系統（MEMS）的蝕刻器/asher。它是一種高精度的等離子體蝕刻器，靈敏度廣泛，通量高，擁有成本低。IPC RIE的工作原理是將RF Energy產生的等離子體沈積到基板表面上，在基板表面迅速將微觀特征蝕刻到材料中。BRANSON RIE配備了3.5 kHz至130 MHz的頻率範圍，並提供了廣泛的氣體類型、射頻控制和過程控制能力，允許精確和可重復的結果。RIE利用0.5-100 mTorr的腔室真空，每個腔室能夠達到10-5和10-6 Torr的真空，足以進行精密蝕刻和沈積。該腔室能夠處理多達25次的射擊，並且可以以各種模式運行，例如Argon、CF4、Cl2、O2和專用等。BRANSON/IPC RIE還具有集成的MCMT工藝,能夠通過順序和同時雙向蝕刻進行蝕刻。這樣可以改進輪廓控制、過程可重復性和極快的處理時間,同時保持良好的特征分辨率和表面光潔度。IPC RIE還提供了一個可調節的壓力控制系統，它允許用最小的努力輕松調整。BRANSON RIE是一種可靠、堅固的蝕刻器，可用於各種應用，如沈積薄膜和MEMS器件、蝕刻溝槽、凹槽和vias以及蝕刻其他材料，包括藍寶石、鋁和矽，允許制造復雜和高精度的器件。RIE用戶友好，與濕蝕刻系統相比具有廣泛的技術優勢。綜上所述，BRANSON/IPC RIE是一種用於制造半導體和MEMS的高性能蝕刻器/asher。它為用戶提供了廣泛的功能和過程控制能力，包括使用各種氣體類型和射頻控制進行蝕刻和沈積的能力。它還提供了快速的處理時間、可重復性和可調節的壓力控制，使其成為許多不同應用的完美工具。