二手 CANON / ANELVA ILD 4002 #9111252 待售

CANON/ANELVA ILD 4002是一款先進的蝕刻器和asher設備，設計用於半導體、MEMS和光電行業的深層反應離子蝕刻（DRIE）應用。該系統能夠精確、控制地完成蝕刻和等離子體操作。CANON ILD 4002具有一系列全面的工藝參數,能夠在多種材料上進行復雜的特征蝕刻。這種蝕刻單元適用於多種難以蝕刻的材料，從砷化氙（GaAs）到多晶矽。ANELVA ILD 4002先進的雙室蝕刻機設計為精確、可重復的深度蝕刻能力。該蝕刻器具有優化的射頻（RF）匹配和耦合功率,而高壓蝕刻環境允許在一系列基板中進行高速率蝕刻。它還具有多種配件選項,為不同的蝕刻和灰化操作提供了靈活性。ILD 4002上創新的腔室設計減少了汙染的可能性，同時允許方便地接觸基板。這種緊湊的蝕刻器和asher工具能夠對各種材料進行深度蝕刻操作。它還提供高精度的灰化功能,以滿足精密蝕刻和灰化要求。CANON/ANELVA ILD 4002的創新設計確保了低工藝溫度、低除氣和最小汙染的蝕刻和灰化操作。CANON ILD 4002提供了一系列的生產力和高精度的蝕刻和灰化能力。它具有納米級蝕刻功能,可實現50納米以下的功能。此外，該資產具有低溫蝕刻能力，蝕刻速率高達350 nm/min，蝕刻後清洗工藝。該模型還提供了各種可靠的蝕刻過程和特征功能,包括精細的選擇性控制、高達2,500 nm/min的蝕刻速率以及缺陷抑制過程。ANELVA ILD 4002也具有16英寸晶圓的能力，能夠進行直接晶圓處理。總而言之，ILD 4002是一種先進的蝕刻器和asher設備，旨在滿足深反應離子蝕刻（DRIE）應用的苛刻要求。它提供了高精度的蝕刻和灰化功能,以及高達50 nm的納米級蝕刻功能和功能。該系統還具有各種強大的蝕刻過程和功能,包括蝕刻後清洗過程和缺陷抑制過程。