二手 CANON / ANELVA ILD 4033 #9111258 待售

CANON/ANELVA ILD 4033是一種復雜的反應性離子蝕刻和大氣壓幹蝕刻（APDE）設備，可以在多個研究領域提供精確分析。該系統專門用於金屬、半導體和其他化合物等材料的蝕刻。CANON ILD 4033單元有一個集成的多級晶圓/基板裝卸機，設計用於在真空氣氛中工作，不需要額外的裝卸和運輸工具。該資產包括一個主軸、一個表、一個機器人臂和其他組件，以快速可靠地從加工室裝卸晶片。該模型還提供了一個可選的氮氣歧管，用於處理氣體和晶片溫度控制，整體晶片選擇和離合器系統，以精確和安全地處理晶片。ANELVA ILD-4033設備能夠進行反應性離子蝕刻（RIE）和大氣壓幹蝕刻（APDE）。它配有靜電卡盤以牢固地固定晶片，並在電極環之間通過等離子體放電。RIE工藝最常用於蝕刻材料，如矽、砷化​​氙和其他化合物半導體。APDE工藝常用於蝕刻鋁、金屬氧化物半導體（MOS）和金屬絕緣體半導體（MIS）結構。對於RIE和APDE工藝,ILD-4033系統都提供可選的石英牽開器,以保持材料的均勻性並減少蝕刻癥狀。此外,該設備還配備了一個功能強大的數據記錄控制站,該控制站還負責控制流程參數、監視晶圓溫度並允許用戶手動覆蓋任何流程設置。該控制站與配方編程完全兼容，可以方便地實時監控晶圓細節。CANON/ANELVA ILD-4033是一臺在蝕刻過程中功能極其強大的機器,它提供了W/M、VO和O2兼容工藝以及壓力、溫度和光致抗蝕劑兼容工藝。該工具的強大設計和高度先進的組件允許在各種材料上進行從亞微米蝕刻到深層蝕刻的蝕刻。總體而言，ANELVA ILD 4033反應性離子蝕刻和大氣壓力幹蝕刻（APDE）資產是一種非常先進的模型，旨在提供金屬、半導體和其他化合物的精確和可靠蝕刻。該設備利用強大的數據記錄控制站和各種蝕刻工藝,為研究應用程序提供世界級的蝕刻性能。