二手 CANON / ANELVA ILD 4100 #9262531 待售
網址複製成功！
單擊可縮放
CANON/ANELVA ILD 4100 蝕刻器/asher是一種先進的等離子體技術設備，設計用於蝕刻和灰化晶片、抗蝕劑、聚合物、電介質和半導體工業中使用的其他材料。它裝有裝有等離子體反應器、絕緣等離子體護套和氮化物沈積系統的腔室。該裝置的離子源是一種線性離子加速器，能夠在功率降低的情況下將各種材料的離子加速到每厘米250伏的速度。該機具有可變氣體淋浴，為精密蝕刻和灰化過程提供受控環境。此外，CANON ILD 4100具有寬闊的液壓室和閉環氣體循環工具，使資產保持恒定的離子濃度，同時保持均勻的蝕刻和灰度深度。該模型非常適合各種蝕刻和灰化工藝。這些包括溝槽蝕刻、隔離蝕刻和表面鈍化蝕刻。它也適用於表面輪廓的修改，如淺層和深層激光退火，表面處理，分層，金屬沈積和離子植入。此外,ANELVA ILD-4100能夠執行高度精確的蝕刻和灰化過程,具有很高的可重復性和可重復性。ILD-4100提供了一個集成的離子束植入和光刻設備，允許光刻過程進行原位與蝕刻和灰化。該系統的控制單元易於使用，允許操作員調整各種參數，以提高工藝效果。機器還配備了各種安全功能，如惰性氣體備用工具，以及其他保護腔室和資產部件免受汙染的功能。該模型能夠支撐各種氣體，從氮氣到氙氣和氧氣。該設備還能夠與清潔、化學氣相沈積（CVD）工藝和其他原位工藝等現有工藝相結合，與行業標準程序相兼容。ILD 4100能夠生產高質量的零件,具有卓越的產量,而不會犧牲生產速度或成本。它還具有高度可靠、耐用、易於維護以及與當前行業實踐和設備兼容的特點。總體而言，ANELVA ILD 4100是一種先進的蝕刻和灰化系統，非常適合半導體行業的各種等離子體蝕刻和灰化工藝。它提供精確的控制、靈活性和可重復性,以及出色的安全功能。它的功能意味著它是市場上最可靠和用戶友好的蝕刻和灰化系統之一。
還沒有評論