二手 CORIAL ICP Etcher #293758417 待售

CORIAL ICP Etcher是一種尖端的等離子體蝕刻設備，設計用於從半導體基板中精確高效地去除材料層。此創新工具將感應耦合等離子體（ICP）技術與先進的過程控制功能集成在一起,可在各種材料和應用中提供卓越的蝕刻性能和卓越的過程均勻性。ICP Etcher的核心是它的高密度等離子體源，由射頻（RF）電源與在過程室中感應強電磁場的線圈耦合產生。這種ICP源產生一種高度電離和高能的等離子體，這對於實現高蝕刻速率同時保持極好的選擇性和側壁輪廓控制至關重要。ICP源獨立於工藝壓力運行，允許精確調整離子能量和方向性，以優化不同材料和幾何形狀的蝕刻參數。CORIAL ICP Etcher中的等離子體蝕刻過程涉及反應性氣體分子和離子與底物表面的相互作用，導致物質層通過一系列復雜反應的物理和化學去除。該系統配有氣體輸送單元，允許精確控制加工氣體，如蝕刻劑、前體和稀釋劑，為特定材料堆棧和裝置結構量身定制蝕刻化學和選擇性。此外，該機采用專用的噴氣淋浴臺設計，確保在蝕刻過程中氣體分布均勻，副產品清洗效率高。ICP Etcher提供了廣泛的蝕刻模式，包括各向同性、各向異性和混合蝕刻，以適應各種設備設計和圖案要求。刀具的加工室配有靜電卡盤（ESC）,在蝕刻過程中將基板牢固地固定在適當的位置,便於進行溫度控制的高效傳熱。該ESC可以有偏差的控制基板充電效果和提高整個晶片表面蝕刻均勻性。為確保精確的過程控制和監控，CORIAL ICP Etcher配備了先進的等離子體阻抗匹配網絡和RF功率控制資產，可根據等離子體條件和工藝要求不斷調整傳遞給ICP源的功率。該模型還具有實時端點檢測能力，如光發射光譜（OES）和激光幹涉測量，以準確監測蝕刻速率並檢測蝕刻過程的完成。除了先進的工藝能力外，ICP Etcher還設計了用戶友好的軟件界面和直觀的配方管理設備，可以方便地設置和優化蝕刻工藝。該系統的自動化功能使基板的高通量處理能夠以最小的操作員幹預,使其成為研究和生產環境的理想解決方案。總體而言,CORIAL ICP Etcher是一款最先進的等離子體蝕刻工具,它結合了尖端技術和先進的工藝控制功能,為各種半導體制造應用提供卓越的蝕刻性能和工藝靈活性。