二手 DENTON VACUUM Infinity FA #293798635 待售

DENTON VACUUM Infinity FA是一種最先進的蝕刻/粉碎機設備，設計用於基板的精確、均勻的等離子體加工。此通用工具結合了先進的技術和用戶友好的功能,可在半導體、MEMS、光學和其他行業的廣泛應用中提供高性能結果。Infinity FA憑借其創新的設計和前沿的能力，是研發以及量產環境不可或缺的工具。DENTON VACUUM Infinity FA具有堅固可靠的真空室,旨在保持超高真空水平,以實現最佳的過程控制和可重復性。該腔室配備了一系列先進的安全功能，包括超壓保護、真空互鎖和緊急停止功能，以確保操作員在操作過程中的安全。該室還設有快速接入端口，便於維護和維修，最大限度地減少停機時間，並最大限度地提高生產率。Infinity FA的心臟是其先進的等離子體源，它在整個基板表面產生高度均勻的等離子體。這種等離子體源由高頻射頻發生器供電，能夠精確控制功率、氣流和壓力等過程參數。射頻發電機配備了自動匹配網絡和阻抗調諧能力，確保最大功率傳遞效率和穩定的等離子體運行。DENTON VACUUM Infinity FA還具有一個多功能氣體輸送系統，可以精確控制過程氣體和混合物。該裝置包括用於精確氣體流量調節的質量流量控制器，以及用於制造定制氣體混合物的多氣體噴射機。這種靈活性使用戶能夠根據自己的特定要求量身定制等離子體化學，無論是蝕刻細膩的材料還是沈積薄膜。除了先進的等離子體源和氣體輸送工具外，Infinity FA還配備了一系列過程監控工具，以確保一致可靠的結果。這些工具包括用於等離子體物種實時監測的光發射光譜（OES），以及用於精確控制蝕刻和灰化過程的端點檢測能力。該資產還具有高級配方管理軟件,允許用戶對復雜的流程序列進行編程和存儲,以便於檢索和執行。DENTON VACUUM Infinity FA的應用非常適合廣泛的等離子體處理應用，包括反應性離子蝕刻（RIE）、等離子體增強化學氣相沈積（PECVD）和等離子體清洗/灰化。其多才多藝的設計和先進的能力使其成為從事半導體、MEMS、光學和納米技術領域尖端技術研究實驗室、大學和生產設施的理想工具。結論：Infinity FA是一種非常先進的蝕刻器/asher模型，為各種等離子體處理應用提供了無與倫比的性能、靈活性和可靠性。其創新的設計、尖端的技術和用戶友好的特性使其成為研究人員、工程師和制造商希望在受控真空環境中實現精確和可重復結果的寶貴工具。無論您是在開發下一代半導體器件,還是在材料科學領域進行基礎研究,DENTON VACUUM Infinity FA都是滿足您所有等離子體處理需求的理想選擇。