二手 E&R Plasmax-1000N #293653208 待售

E&R Plasmax-1000N是一種專門為各種基材制備、蝕刻和底蝕應用而設計的蝕刻器/粉碎器設備。它利用先進的等離子體源技術創造了廣泛的精確和可重復的等離子體工藝條件，從而能夠精確控制一系列參數，包括溫度、壓力、流量和電解質濃度。Plasmax-1000N由兩個主要組件組成-離子源和處理室,這兩個組件都裝在一個緊湊的單一機櫃中。該加工室采用先進的靜電放電（ESD）技術對基板進行精密蝕刻和灰化處理。ESD技術產生了一個靜電、非接觸的離子源，允許精確控制等離子體產生的過程條件，從溫度和壓力到種類和反應物濃度。此外,E&R Plasmax-1000N能夠產生高分辨率、精細特征的蝕刻,其功能可低至100 nm,從而實現精確的圖樣蝕刻和選擇性灰化工藝。Plasmax-1000N能夠容納各種各樣的基材，包括石英、玻璃、矽和其他材料。它還包括離子植入、離子濺射、氣相蝕刻等先進的基於等離子體的技術，以及獲得專利的等離子體屏蔽技術。這項專利技術使該系統能夠在超高清潔環境中運行，提供卓越的基材制備、蝕刻和底蝕工藝。E&R Plasmax-1000N是一種高效可靠的微加工和納米加工應用工具。它易於使用，其精心設計的用戶界面允許對工藝參數進行精確控制。該室是獨立的，完全封閉的，在操作過程中提供高度的安全。此外，Plasmax-1000N還提供節能操作，在大多數應用中使用低能、低壓等離子體源。總體而言，E&R Plasmax-1000N是一個先進的蝕刻器和asher單元，設計用於苛刻的基材制備，蝕刻和底蝕應用。它提供了精確、可重復和可預測的等離子體工藝條件，從而能夠精確控制各種參數。ESD技術、先進的基於等離子體的技術、獲得專利的等離子體屏蔽技術使機器能夠產生高分辨率的蝕刻和選擇性的灰化工藝，而獨立的腔室和用戶界面確保安全高效的操作。