二手 GASONICS / NOVELLUS PEP 3510 Iridia #293752827 待售
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ID: 293752827
晶圓大小: 6"
Asher, 6"
Dual chamber
Component configuration:
Cassette unit:
Cluster PCM
YASKAYA XU-CM 4730 Robot controller
Chamber unit:
(2) Lift and right PCM
(2) MISC Controllers
(2) Gas controllers
(2) M/W Controllers
(2) Lamp controllers
(2) EUROTHREM 818S Temperature controllers
(2) NIKON M680 Temperature controllers
(2) ASTEK D13765 M/W Generator (Right side)
(2) ENI ACG-6B RF Generators
(2) MKS MWH-5 RF Matchers
(2) MKS MWH-R RF Matcher boxes
(2) MKS 600 Series Pressure controllers
(2) MKS 638B-2-50-2 Pressure valves
Gas supply:
Gas name / Range / Size
CF4 / 200 mm / 1/4" VAC
N2 / 500 mm / 1/4" VAC
O2 / 500 mm / 1/4" VAC
HE / 2 SLPM / 1/4" VAC
NF3 / 20 CC / 1/4" VAC
O2 / 50 SCCM / 1/4" VAC
Purge N2 / - / 1/4" VAC
Utility description:
Name / Description / Unit
Power (AC) / ø3, 208V, 5wire, 150A, 50/60 Hz / Power Box
PCW / QC6 Connector, 4EA / Chamber
VAC / ISO 80, 2EA / Chamber
CDA / 3 / 8" SWG Male, 2EA / Chamber.
GASONICS/NOVELLUS PEP 3510 Iridia是一種高度先進、用途廣泛的蝕刻器/asher設備,用於半導體制造過程中,用於對底物上的薄膜和殘留物進行精確、均勻的去除。此工具構建在強大的平臺上,旨在為大容量生產環境提供卓越的性能、可靠性和過程控制。該系統具有創新的技術和能力,使其適合半導體行業的廣泛應用。GASONICS PEP 3510 Iridia的核心是其先進的等離子體蝕刻和灰化能力,能夠精確控制不同材料和結構的蝕刻速率、選擇性和均勻性。該單元配備了產生反應性等離子體的高密度等離子體源,允許從基板中高效和選擇性去除材料層。該等離子體源與先進的工藝室設計和氣體輸送系統相結合,確保了最佳工藝性能和可重復性。NOVELLUS PEP 3510 Iridia提供了一系列工藝氣體和化學物質,使用戶可以靈活地定制蝕刻和灰化工藝,以滿足特定的要求。這種靈活性對於解決半導體制造中遇到的各種材料和結構,如矽、氧化物、氮化物、金屬和多晶矽,至關重要。機器的氣體輸送工具受到精確控制,以維持所需的工藝條件,並便於形成材料去除所必需的等離子體種類。PEP 3510 Iridia的關鍵強項之一是其先進的過程監控能力。資產配備了實時過程監測傳感器,能夠進行現場端點檢測,這對於實現精確的過程控制和確保一致的蝕刻/灰化結果至關重要。此外,該模型還采用先進的硬件和軟件算法進行過程優化,從而能夠實時調整關鍵參數,從而獲得所需的蝕刻輪廓和端點。GASONICS/NOVELLUS PEP 3510 Iridia專為高通量處理而設計,具有快速氣體切換、快速泵降時間、高效晶圓處理能力等特點。這些功能有助於提高生產率和縮短周期時間,使設備非常適合處理過程吞吐量是關鍵因素的大批量制造環境。該系統的設計還便於維護和維修,確保了最低限度的停機時間和運營成本。綜上所述,GASONICS PEP 3510 Iridia是一款具有先進等離子體處理能力、過程監控特性、高通量性能的最先進的蝕刻機/asher單元。它是一種通用工具,可解決各種半導體制造應用,為用戶提供生產先進半導體器件所需的精確度、可靠性和效率。無論是蝕刻薄膜、去除殘留物,還是在半導體制造中執行關鍵工藝步驟,NOVELLUS PEP 3510 Iridia都是實現高質量、均勻結果的領先解決方案。
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