二手 HARRICK PDC-002 #293802208 待售

ID: 293802208
Plasma cleaner Vacuum pump Compact tabletop unit (6) Chambers with diameter: 6 mm Hinged cover feature: Magnetic closure and viewing window CE Regulation Needle valve: 1/8 NPT Pyrex plasma chamber Vacuum pump speed: 1.4 m3/hr, 50 / 60Hz 32 / 36m 3h-1 3 Ultimate total pressure: 23m torr Motor power: 250 / 300 W Dual gas feed for process gas mixing Dual calibrated process gas flowmeter: 1.0 SCFH and 2.0 SCFH Thermocouple vacuum gauge RF Power: 7.16 to 29.6 W RF Frequency: 8 to 12 MHz.
HARRICK PDC-002是一種用途廣泛的等離子體蝕刻器/asher設備,設計用於對各種材料進行精確和均勻的表面修改。這種先進的等離子體加工工具能夠高精度、重復性地去除有機汙染物、清潔表面、蝕刻各種材料。憑借其用戶友好的界面和先進的功能,PDC-002適用於需要可靠等離子體處理能力的研發設施、學術機構和工業實驗室。HARRICK PDC-002利用低壓等離子體放電來活化氣體,如氧氣、氙氣或其他反應性物質,用於表面處理應用。該系統具有堅固的真空室,配有高質量組件,可產生和控制等離子體放電。真空室設計用於在整個加工周期中保持穩定和均勻的等離子體環境,確保整個處理表面的結果一致。PDC-002的一個關鍵特征是它的可自定義的過程參數,允許用戶根據他們的特定應用要求量身定制等離子體處理。該裝置提供對氣體流量、壓力、功率密度和處理時間的精確控制,使用戶能夠針對不同的材料和應用優化等離子體處理條件。這種靈活性使得HARRICK PDC-002適用於廣泛的過程,包括表面激活、清潔、蝕刻和功能化。PDC-002具備先進的安全功能,確保用戶在操作過程中的保護和機器完整性。該工具包括互鎖、壓力傳感器和過載保護機制,以防止設備損壞並維護安全的操作環境。此外,軟件界面提供了對關鍵參數的實時監控,允許用戶跟蹤等離子體處理的進度,並根據需要進行調整。HARRICK PDC-002的等離子體源由高頻射頻發電機供電,能夠向等離子體放電提供精確的功率水平。該資產提供連續波和脈沖操作模式,允許用戶根據所需的過程結果優化向等離子體的能量傳遞。射頻發生器與模型控制軟件集成,使得電源和等離子體過程之間實現無縫通信和同步。PDC-002設計用於與外部外圍設備和附件(如氣流控制器、質量流量計和現場診斷工具)輕松集成。該設備可定制附加組件,以增強其特定應用的能力,如反應性離子蝕刻、等離子體聚合或表面官能化。HARRICK PDC-002的模塊化設計允許用戶根據需要擴展和升級系統,以滿足不斷變化的研究和處理需求。總之,PDC-002是一個最先進的等離子體蝕刻器/asher單元,它為各種材料和應用提供精確和均勻的表面修改能力。HARRICK PDC-002具有先進的功能、可定制的工藝參數和用戶友好的界面,是研究人員和工程師尋求實現受控和可重現的等離子體處理結果的寶貴工具。
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