二手 HITACHI HS-9050 #293778113 待售
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ID: 293778113
晶圓大小: 12"
優質的: 2019
Asher, 12"
7 Chamber tool
(2) Cooling chambers
(5) Ashing units
Integrated transfer module
No Hard Disc Drive (HDD)
Capacitance manometer: (772B11TCD2FA) DG1
RF Power supply: (AXG-5000 III- 27M- KE)
Multi wavelength: EPD 0.1s
Mini-Environment Wafer Loading Module (EFEM)
MFC Ashing unit
MFC N2 Max flow 20 L/min (SEC- Z522MGXN)
MFC O2 Max flow 20 L/min (SEC- Z522MGXN)
MFC Ar Max flow 20 L/min (SEC- Z522MGXN)
MFC H2 Max flow 5 L/min (SEC- Z512MGX)
MFC N2 Max flow 20 L/min (SEC- Z522MGXN)
MFC CF4 Max flow 1 L/min (SEC- Z512MGX)
MFC CO2 Max flow 0.4 L/min (SEC- Z512MGX)
MFC He Max flow 20 L/min (SEC- Z522MGXN)
MFC Without gasline / Without MFC
MFC Without gasline / Without MFC
MFC Without gasline / Without MFC
Process modules
(2) Cooling units
2019 vintage.
HITACHI HS-9050是為滿足半導體和微電子制造工藝的精確要求而設計的高度先進的蝕刻/asher設備。這款尖端設備結合了創新技術和堅固的結構,在關鍵晶圓處理應用中提供卓越的性能和可靠性。HS-9050系統的核心是其最先進的等離子體加工室,其設計目的是提供均勻和受控的半導體基板蝕刻/灰化。該腔室配有先進的氣體輸送系統、射頻電源和溫度控制機制,以確保精確的過程控制和可重復性。HITACHI HS-9050的主要特點之一是其高速處理能力,使半導體晶片能夠快速高效的蝕刻/灰化。這是通過使用先進的等離子體源和工藝參數的優化來實現的,允許晶圓制造的高吞吐量和減少循環時間。HS-9050還提供了一系列工藝選項和定制,以滿足不同半導體應用的具體要求。該裝置支持多種氣體化學、壓力範圍和溫度設置,使其用途廣泛,可適應廣泛的工藝條件。HITACHI HS-9050除了具有先進的處理能力外,還具有可靠性和易於操作的特點。該機器配備了直觀的用戶界面和高級診斷工具,以方便對進程進行設置、監視和故障排除。這確保了半導體制造環境中最小的停機時間和最大的生產率。此外,HS-9050設計符合嚴格的安全和環境標準的半導體加工設施。該工具具有可靠的安全聯鎖、氣體減排系統和廢物管理選項,以確保安全的工作環境和遵守行業法規。HITACHI HS-9050還具有可擴展性和模塊化功能,可方便地集成到現有的生產線中並擴展未來的加工能力。這種靈活性使其成為尋求升級蝕刻/灰化功能同時保持與現有設備和工藝兼容性的半導體制造商的理想選擇。總體而言,HS-9050是一項尖端的蝕刻/asher資產,為半導體和微電子制造應用程序提供了先進的處理能力、可靠性和易於操作。HITACHI憑借其創新的設計、高速的處理能力和全面的安全特性,HS-9050為半導體行業的精密蝕刻/灰化設定了新的標準。
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