二手 LAM RESEARCH 2300 Exelan #9298287 待售

ID: 9298287
晶圓大小: 12"
Dielectric etcher, 12" Process: KIYO_EXEL_CU Chambers V2 Mainframe (3) Load ports Chemicals / Gases: Chamber positions 1, 2, 3 and 4: C4F8, CF4, Ar, H2, CHF3, CH2F2, C4F6, 30%O2He Does not include Hard Disk Drive (HDD) Power: 208 AC, 3 Phase, 400 A.
LAM RESEARCH 2300 Exelan是一種蝕刻/抽吸系統,利用等離子體或氣體蝕刻在半導體晶圓上圖樣和加工有機材料。該系統用於制造集成電路,特別是用於高級內存應用。它具有多槍源配置,是保形蝕刻的絕佳選擇。2300 Exelan設計為八室配置。它使它能夠提供非常均勻的蝕刻層,這是高質量的IC所必需的。它還具有更先進的蝕刻能力,能夠在亞微米級生成等離子體。這種蝕刻功能對於制造高級內存應用程序至關重要。此外,LAM RESEARCH 2300 Exelan具有更高的吞吐量能力,每小時最多可處理80個晶圓。2300 Exelan配備了先進的低頻等離子體(LFP)發電機,使其能夠在廣泛的深度進行控制蝕刻。它還具有創新的控制過程,如總壓力調整和溫度控制,有助於確保精確蝕刻。此外,LAM RESEARCH 2300 Exelan采用自動源壓力控制系統設計,為用戶靈活調節不同基板的源壓力。2300 Exelan還包括一組傳感器,可完美監控工藝參數,並為用戶提供開放的反饋回路來控制蝕刻工藝。作為其高級設計的一部分,LAM RESEARCH 2300 Exelan還包括一個幫助優化每個周期的高度高級算法。這有助於提高蝕刻速率,同時保持成品的均勻性和準確性。總體而言,2300 Exelan是細膩底物保形蝕刻的絕佳選擇。其高吞吐量、先進技術和靈活性使其非常適合高級內存應用程序的嚴格要求。LAM RESEARCH 2300 Exelan具有多槍配置、精確控制和出色的精確度,是您任何蝕刻/抽吸需求的絕佳選擇。
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