二手 LAM RESEARCH 2300 Kiyo #9302266 待售

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ID: 9302266
晶圓大小: 12"
優質的: 2008
Poly etcher, 12" (4) Chambers (3) FOUP load ports RPDP AC Power box Does not include system pumps or chillers (16) Gas lines IGS Gas boxes: Gas line / Gas type / MFC Size Gas 1 / SiCl4 / 100 Gas 2 / BCI3 / 300 Gas 3 / Cl2 / 300 Gas 4 / HBr / 500 Gas 5 / CF4 / 400 Gas 6 / O2 / 500 Gas 7 / O2 / 200 Gas 8 / He / 500 Gas 9 / H2 / 200 Gas 10 / CH2F2 / 200 Gas 11 / Ar / 1000 Gas 12 / 30% O2He / 50 Gas 13 / NF3 / 1000 Gas 14 / N2 / 250 Gas 15 / CHF3 / 300 Gas 16 / SO2 / 200 2008 vintage.
LAM RESEARCH 2300 Kiyo是一個最先進的等離子體蝕刻器/asher系統,設計用於精確可靠的晶圓處理。它的特點是創新、緊湊的設計,優化了設備的足跡,並允許更精確的移動和控制。其先進的能力與卓越的可靠性和可重復性相輔相成,這種可靠性和可重復性由卓越的靜電場、精確的掃描運動和精確的氣流提供,用於精確的360°單晶圓蝕刻。強大而先進的Kiyo具有獲得專利的電弧檢測機制(ADM),可讓工藝用戶精確控制蝕刻過程,並確保出色的蝕刻精度和一致性。使用這種基於應用程序的控制,用戶可以調整應用的氣流和壓力,以獲得精確的蝕刻結果,從而最大程度地減少刀具運行周期的數量。此外,Kiyo可以在難以蝕刻的材料上提供高蝕刻性能,如光刻膠、鎢、矽、高k電介質和其他材料。這是由特定於應用程序的晶圓處理模塊(WHM)實現的,這些模塊通過高速掃描提供精確的運動和運動控制。Kiyo還配備了多個節氣門和質量流量控制器,能夠在晶圓表面上實現精確的氣體控制和均勻的氣體分布。這提供了極好的可重復性,這在諸如MEMS和微處理等應用中是必不可少的。Kiyo還包括一項特殊功能,可幫助確保提供清潔蝕刻結果-這是一個獲得專利的泵系統,可幫助在蝕刻之前、期間和之後疏散空氣和副產品。除了先進的功能外,Kiyo還采用圖形用戶界面(GUI)來設計易用性。GUI允許流程工程師輕松設置蝕刻參數、監控刀具性能並優化流程配方以獲得一致且可重復的結果。此外,Kiyo能夠將數據傳輸到USB驅動器,甚至可以連接到主機PC進行進一步的數據處理和控制。總體而言,2300 Kiyo是一種理想的蝕刻解決方案,可為用戶提供精確且可重復的結果,同時還可最大程度地減少工具運行時間。Kiyo利用創新的運動控制、精確的氣流和先進的功能,如泵系統和特定於應用程序的WHM,為任何應用程序提供最佳的蝕刻性能。
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