二手 LAM RESEARCH 2300 Metal45-CIP #9241985 待售

LAM RESEARCH 2300 Metal45-CIP蝕刻器是一種用於半導體行業蝕刻工藝的高性能、多室等離子體設備。它具有獲得專利的源主機模塊化體系結構,為復雜的蝕刻過程提供了靈活性並提高了吞吐量。400mm的大腔室允許一個能夠進行大容量設備生產的系統以及專門的晶圓處理。此外,該單元通過基板裝卸、多腔室配置以及執行各向同性和各向異性蝕刻的能力,提供了高水平的功能和工藝精度。該Metal45-CIP配備了跨越100MHz至2.45GHz頻率範圍的多頻電容耦合等離子體（CCP）源。這種寬頻率範圍使機器能夠由於調節源功率、溫度和壓力的靈活性，以優越的工藝控制和均勻性蝕刻多種材料和層。此外，Metal45-CIP能夠控制基板的偏壓，以降低電感處的功率射頻。通過這種提高的工藝控制水平，半導體設計者能夠實現對摻雜、接觸和柵極結構的高度精確控制。Metal45-CIP獲得專利的多端口源-主機（MPSH）體系結構允許氣源直接垂直進入，從而實現快速高效的氣體分配，從而降低氣體膨化效應，提高蝕刻均勻性。此外，該工具采用模塊化設計，最多可同時操作3個會議廳，根據應用程序和流程需要實現靈活的資產配置。此外，Metal45-CIP還配備了源主機機械聯鎖和壓力泄漏檢測模型等先進的安全功能，以保護人員和方便安全操作。此外,它還具有先進的監控和診斷功能,例如遠程監控,以提高生產效率和設備可用性。總之，2300 Metal45-CIP蝕刻器是半導體工業中一種先進的基於多腔等離子體的蝕刻工藝系統。憑借其多室配置、寬頻率範圍、模塊化MPSH架構以及先進的安全功能，該單元提供了高水平的過程控制，以實現高效可靠的性能。