二手 LAM RESEARCH 2300 Versys Kiyo #9226894 待售
看起來這件物品已經賣了。檢查下面的類似產品或與我們聯系,我們經驗豐富的團隊將為您找到它。
單擊可縮放
已售出
ID: 9226894
晶圓大小: 12"
優質的: 2012
Polysilicon etch chamber, 12"
Process: HIK
Diameter: 300+/- 0.05mm (SEMI M28), 775 +/- 25um
2300 Kiyo process module
2012 vintage.
LAM RESEARCH 2300 Versys Kiyo是一款為半導體器件制造而設計的蝕刻器/asher。它是一種全封閉、高壓、高溫、高真空蝕刻器,設計用於處理300 mm尺寸範圍內的大面積基板。該設備具有大容量和獲得專利的大氣負載鎖設計,可方便高效地轉移基板。該系統可處理Si、SiGe、SOI、Al、Ti、Cu等多種材料。該單元是一個高效、雙波長的離子機蝕刻平臺,能夠同時執行標準和高長寬比工藝。配備大功率蝕刻源、高壓註氣、排氣處理工具、就地診斷資產。蝕刻室和工藝模塊由堅固的不銹鋼構成,對整個蝕刻過程具有精確的溫度控制。它能夠在深層各向異性蝕刻過程中實現高溫和高等離子體條件,且室內汙染最小。該型號還配備了Kiyo™ Sidestream Processing獲得專利的LAM RESEARCH,可提高蝕刻均勻性和提高工藝穩定性。這一特性使得可以獨立控制蝕刻室兩側的等離子體,使蝕刻輪廓優化到滿足工藝要求。設備還有一個過程監控系統,允許對晶圓幾何形狀、溫度和等離子體均勻性等關鍵參數進行實時監控。該單元與基於Windows的圖形用戶界面(GUI)和屏幕上的流程控制完全集成和自動化。該界面允許輕松設置復雜的流程,並提供包括流程目錄和實時流程數據的綜合報告機。該工具還具有室內光學測量功能,以收集有關薄膜和氧化物厚度以及輪廓形狀的數據。2300 Versys Kiyo是一款可靠、用途廣泛的蝕刻器/asher,可滿足半導體器件制造的苛刻需求。它設計用於高通量、高均勻性蝕刻以及化學機械拋光(CMP)。憑借其精確的溫度控制和先進的過程監控能力,資產能夠在保持高產的同時優化性能。
還沒有評論