二手 LAM RESEARCH 2300 Versys Kiyo #9359216 待售
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已售出
ID: 9359216
晶圓大小: 12"
Etcher, 12"
(3) Process chambers
V2 Platform
Transfer chamber:
BROOKS AUTOMATION Transfer robot
Transfer robot ARM
(6) Rocker valves
TM Pressure gauge
MKS 640 TM Pressure control
Loadlock pressure gauge (Hasting gauge)
VAT Slit door
TM Super slot board
Airlock cover
DA Sensor
Etch chambers PM2/PM3:
2300 Kiyo, 2005 vintage
Pressure gauges:
E28B-30584
(2) 625A-14059
65048-JH52 Pendulum valve
ATH2300M Turbo pump
Apex 1513 TCP RF Generator, P/N: 660-032596-013
Apex 1513 Bias RF Generator, P/N: 660-032596-014
RF Matches:
TCP, P/N: 832-034908-009
Bias, P/N: 832-038915-001
ESC, P/N: 839-019090-328
Missing process kits:
Top edge ring
Bottom edge ring
Wall liner
649A-14943 Back He UPS
ESC Power supply
VME Assembly
Foreline assembly
OES
Luxtron
Etch chamber PM4:
2300 Kiyo Chamber
Pressure gauges:
E28B-30584
(2) 625A-14059
65048-JH52 Pendulum valve
ATH 2300M Turbo pump
Apex 1513 TCP RF Generator, P/N: 660-032596-013
Apex 1513 Bias RF Generator, P/N: 660-032596-014
RF Matches:
TCP, P/N: 832-034908-009
Bias, P/N: 832-038915-001
ESC, P/N: 839-019090-328
Missing process kits:
Top edge ring
Bottom edge ring
Quartz injector
Wall liner
649A-14943 Back He UPS
ESC Power supply
VME Assembly
Foreline assembly
OES
Luxtron
(3) Gas panels:
PM2:
IGS Gas panel
12-Stick gas channels
SEC-Z300 Mass Flow Controllers (MFC)
PM3/PM4:
IGS Gas panel
16-Stick gas channels
SEC-Z300 Mass Flow Controllers (MFC)
Gases for PM2/PM3/PM4:
Gases / Size
CL2 / 200 SCCM
HBR / 50 SCCM
CF4 / 200 SCCM
O2 / 20 SCCM
O2 / 200 SCCM
HE / 500 SCCM
SF6 / 200 SCCM
CH4 / 50 SCCM
HBR / 500 SCCM
CHF3 / 200 SCCM
N2 / 100 SCCM
AR / 500 SCCM
Delivery and pre-charge gas line
GIB Line and FIB cover
Gas box cover.
LAM RESEARCH 2300 Versys Kiyo 蝕刻器/asher是來自半導體工藝設備領先供應商LAM RESEARCH的一系列前沿蝕刻/灰分工具中的最新產品。它被設計成一種高效、高通量的設備，能夠重現嚴密的尺寸控制和高保真表面。它非常適合各種過程,包括高級和多層蝕刻/灰燼應用程序。Versys Kiyo利用先進的射頻技術提供了最高精度的蝕刻/灰分工藝。其最先進的過程控制和診斷提供了卓越的性能和可靠性,從而產生了卓越的設備產量,並允許更高的過程吞吐量。該工具先進的溫度控制技術也確保了高精度和重復性。該機的晶片處理能力在設計上也提供了關鍵優勢，因為Versys Kiyo配備了高效、可配置的晶片傳輸系統和20站集群工具卡帶裝載機。這確保了晶片的快速、可靠的加載和卸載,這是任何蝕刻/灰燼工具的重要功能。該單元還通過其可編程的功率和頻率功能提供了靈活性,使流程能夠針對一系列設備類型進行定制,包括細線、瘦線和其他復雜幾何形狀。此外,還提供了一系列最先進的射頻功率函數,如脈沖功率、線性功率坡道和可編程波形,以進一步擴展蝕刻/灰燼處理的靈活性。為了提供最高水平的機器精度和可追蹤性,Versys Kiyo 蝕刻器/asher包括集成的計量包和先進的表面成像技術。這些特性旨在最大限度地提高工藝控制和重復性，並為晶片提供盡可能高的成像精度和分辨率。最後,Versys Kiyo 蝕刻器/asher設計為具有較低的運營成本,這有助於最大限度地為設備制造商和最終用戶節省成本。先進的用戶友好操作使操作員能夠快速了解和利用Versys Kiyo的功能,從而幫助降低用於安裝和操作員培訓的資源成本。總體而言,2300 Versys Kiyo 蝕刻器/asher提供了高級蝕刻性能、高晶圓吞吐量、可配置性和低運營成本的完美組合。這使得它成為各種復雜蝕刻/灰燼工藝的理想工具。
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