二手 LAM RESEARCH 2300 Versys Metal #293829553 待售
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ID: 293829553
Chamber
Quick clean kits
Pendulum valve clean kits
Chamber manometer filter
Wafer clamping mechanism: Bipolar ESC, Ceramic
Edge ring: Standard
ESC Hose kit: Standard with shaft seal
ESC Facility plate: Compression facility plate
Chamber manometer: Standard
Wafer lift mechanism: Direct drive
Focus ring: Ceramic
Capacitance lock: No capacitance lock
Voltage control interface: 1200V
Gas feed: Top
O-rings: Chemraz
TCP Coil plating: Improved coil plating
200MM Turbo pump: 2200 L/s BOCE (Seiko Seiki)
Endpoint detection: Optical emission spectroscopy
Chamber isolation valve: Chemraz seal door on VAT Rkr
Lower isolation valve: Chemraz (-101)
Pump to TCU: 50ft
TCU to PM: 100ft
PM to Pump interconnect: 100ft
TCU to RPDB: 50ft
Pump to RPDB: 50 ft
Gas box:
Mounting location: Transport module
Door: Window
Primary valve options: Lock-out tag-out manual valve
Facilitization: No gas interface box
Gas system exhaust: Top exh (Heat and smoke ABTMNT)
Gas system metrology
Primary proc gas line valves: CIP
Secondary proc gas line valves: CIP
Jetstream gas box:
Config MFC by Line? : Yes: Line by line
(16) Process gas lines
Heated gas lines option heated lines: Pos 1 & 2
Manifold options: Multi-exit
Peripherals:
Metal etch backing pumps cust: Supply: IH-600
Metal etch TCU config cust supply: 4080 Plus
PEDB
TCU Hose kit: Lam supplied
TCU to PM hose type: Standard
Gas box config:
Line / MFC Type / Gas type / Gas Flow / Heated / Facilitization
Line 01 / - / No gas / - / - / Yes / No
Line 02 / SD519 / BCL3 / 500 / Yes / No
Line 03 / SD519 / O2 / 200 / No / No
Line 04 / SD519 / CL2 / 300 / No / No
Line 05 / SD519 / NF3 / 200 / No / No
Line 06 / - / No gas / - / No / No
Line 07 / SD519 / SF6 / 200 / No / No
Line 08 / SD519 / N2 / 500 / No / No
Line 09 / SD519 / CF4 / 200 / No / No
Line 10 / SD519 / AR / 500 / No / No
Line 11 / SD519 / HE / 300 / No / No
Line 12 / - / No gas / - / No / No
Line 13 / - / No gas / - / No / No
Line 14 / - / No gas / - / No / No
Line 15 / - / No gas / - / No / No
Line 16 / - / No gas / - / No / No.
LAM RESEARCH 2300 Versys Metal是一款專門為先進半導體制造工藝中的金屬層而設計的尖端蝕刻器和asher。該設備采用創新技術和功能,可為大批量生產環境提供精確可靠的蝕刻和灰化性能。2300 Versys Metal的核心是其先進的工藝能力，它允許以非凡的均勻性和選擇性對各種金屬層進行蝕刻和灰化。該系統能夠處理廣泛的半導體制造常用金屬，包括鋁、銅、鈦、鎢等。LAM RESEARCH 2300 Versys Metal的多用途加工能力使其非常適合各種應用,例如金屬門蝕刻、金屬接觸圖樣以及高級邏輯和內存設備中的金屬去除。2300 Versys Metal的關鍵部件包括高性能等離子體源、先進的氣體輸送單元、精密基板處理平臺以及直觀的過程控制軟件。等離子體源產生高反應性等離子體，使金屬層能夠高效蝕刻和灰化，而氣體輸送機則控制工藝氣體的流動和組成，以達到最佳工藝條件。精密基板處理平臺確保晶片在處理過程中的精確對準和控制，而過程控制軟件則為配方開發、過程監控和數據分析提供了用戶友好的界面。LAM RESEARCH 2300 Versys Metal的一個顯著特點是其先進的端點檢測能力，它允許對蝕刻和灰化過程進行實時監控，以實現對過程端點的精確控制。此功能對於實現金屬層蝕刻和灰化的均勻性和可重復性至關重要,因為它使刀具能夠在到達所需端點後自動停止該過程。此外，該資產還配備了先進的腔室清潔能力，以保持工藝清潔，防止不同金屬層之間的交叉汙染。2300 Versys Metal的設計考慮了生產力和成本效率,具有高吞吐量和低擁有成本。該型號能夠每小時處理大量晶片，非常適合大批量生產環境。設備還采用了節能技術，以盡量減少耗電量，並降低設備使用壽命期間的運營成本。綜上所述，LAM RESEARCH 2300 Versys Metal是先進半導體制造中為金屬層加工量身定制的最先進的蝕刻和asher系統。憑借其先進的工藝能力、精確的控制功能和高吞吐量性能,該設備為半導體制造商提供了一種在尖端半導體器件中蝕刻和灰化金屬層的可靠且經濟高效的解決方案。
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