二手 LAM RESEARCH 2300 Versys #78825 待售
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單擊可縮放
已售出
ID: 78825
晶圓大小: 12"
優質的: 2005
Poly etch / microwave strip system, 12"
Install Type: Thru-the-wall (TTW)
CE Marked
Protocol: FEOL
System SW: 1.7.1-SP3-HF5
Mainframe Type: V2.0
Cassette Interface:
(3) Brooks 300mm FOUP Load-ports
Brooks Mag 7 Robot
User Interface: Side/Front
OES: Ocean Optics
Status Lamp (RYGB) Side/Front
PM3: 2300 Kiyo45 Poly Etch
TMP Pump: Edwards STP-XA2703CV
RF PS (Top): AE Apex 1513, 13.56MHz (1500W max)
RF PS (Btm): AE Apex 1513, 13.56MHz (1500W max)
Gas Box:
Unit 8561 MFCs
SICL4, CL2, SF6, CHF3, H2, NF3, HBR, HBR, CH2F2, CF4, O2, O2, N2, CHF3, Ar, He
PM4: 2300 Mwave Strip
Mwave PS: Astex AX2630LRC3-S
Mwave Match: MKS V0DMB-26565
Gas Box:
Unit 1661 MFCs
N2 (1000), O2 (5000), CF4 (100), H2O (3000)
Chiller (PM3): Noah 3500 POU, BTM: HT200, PSC-8800 Cntrl
Pumps: Not all Pumps may be present
Main AC Power Dist. Box (Wall/Unistrut mount)
Power Requirements: 208V, 272A, 3-PH, 3-wire+Gnd, 50/60Hz
Can be inspected
2005 vintage.
LAM RESEARCH 2300 Versys Kiyo 45是一款高度先進的蝕刻組裝解決方案,旨在滿足高級蝕刻組裝需求。此產品有助於提高性能、準確性和產量,同時降低成本。這款蝕刻器/asher采用業界領先的定向等離子體蝕刻（DPE）技術，提供出色的蝕刻精度和均勻性，以及高密度的器件特征裝配。LAM RESEARCH 2300 VERSYS KIYO45提供42個工藝室,每個室都配備DPE功能,可集成300多種工藝配方。每個腔室都配有沈積、蝕刻和退火模塊以及12個高分辨率質譜儀。每個腔室都有一個4英寸乘5.2英寸（200毫米）乘6.5英寸（500毫米）的窗口，提供出色的光學接入和較大的晶圓面積。該腔室光學質量優越，覆蓋精度優越，且腔室背景壓力低，配合高供應流量，提高了蝕刻工藝質量。2300 Versys Kiyo 45旨在優化吞吐量，每小時最多可處理450個晶圓。它可以為大批量制造提供可重復的蝕刻配置文件,並憑借其DPE技術具有高度的工藝配方靈活性,從而實現更高效的工藝集成。2300 VERSYS KIYO45設計用於生產環境,可安全運行。其集成過程控制系統、LED可提升子結構、自動晶圓和盒式進紙器以及故障安全過程有助於確保晶圓的最大產量,同時最大限度地縮短維護時間。該系統也具有靈活性，以適應生產需求的變化。LAM RESEARCH 2300 Versys Kiyo 45是芯片制造和封裝的理想選擇,提供卓越的精度和產量,以及高質量和可重復性。這個先進的系統提供了一個絕佳的解決方案，以蝕刻和組裝復雜的設備，同時降低生產的總成本。
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