二手 LAM RESEARCH 2300 Versys #9007779 待售
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ID: 9007779
Metal Etcher, 12"
Application: M1/M2 Al Etch
Chambers: (2) Metal Etch CH + (2) Ash/Strip CH
Install Type: Stand-Alone
System Software (ver.): 1.7.2sp2HF4-CST-5
Factory Interface/Automation:
Interface: (3) Carrier Stage (continuous flow operation)
Brooks 300mm Load-Ports
25-Slot FOUPs (complies w/SEMI E47.1)
Overhead Transport System (OHT)
OHT PIO Sensors
Wafer ID Reader: No WIDS, Bottom Read
Carrier ID Reader: HERMOS RF Tag-Reader
Main-Frame (M/F) / Transport Module (TM):
Platform Type: Version 2
User Interface-1: Front side, Flat Panel Display
User Interface-2: System side, Flat Panel Display
GEM/CIM JGJ: Ethernet 100BaseT
Status Lamp: (2) R/Y/G/B
1: Front side (FI), Upper-Left
2: Tool side, Upper-Right
EMOs: (2) Front, (2) Rear
Conditioning Stage: 4-Slot Cooling Station
Heated Fore-lines
Dual Drop Sub-Panel
UPS on System
GFI Main CB
TM Gas Box: 12-Line Enhanced Gas Box
Tool Fab Interlocks:
Gas Box Door (Local) Fab
Fab Gas Box Iso-Valves
Utility Box:
Regulators:
CDA: SMC AR2500
N2: Veriflo SQ-420E
He: Veriflo SQ-Micro
Manual Valve: OGD20V-6RM-K / OGD10V-4RM-K (CKD)
Pressure Gauge: Bourdon Gauge
De-installed
2006 vintage.
LAM RESEARCH系列LAM RESEARCH 2300 Versys是一款精密的蝕刻/asching設備，旨在滿足半導體行業的需求。該系統具有廣泛的工藝模塊，能夠在現代半導體器件的生產中執行關鍵的蝕刻和asching任務。2300 Versys配備了高度可靠、堅固的工藝室和智能控件。這個加工室是密封的，沒有暴露在外部大氣中，以確保一個幹凈純凈的環境，用於蝕刻和燒蝕材料。此外，該腔室還裝有一個基於氮的管道裝置，使加工氣體在整個腔室中的亞音速分布能夠提供均勻的材料沈積。LAM RESEARCH 2300 Versys先進的遠程等離子體源和反應性離子蝕刻能力,可實現對蝕刻速度、圖樣、蝕刻尺寸和均勻性的高精度控制,並能抵抗加載和去除。此外，多室疏散和回填能力能夠完全遏制蝕刻副產品，從而減少汙染。此外,機器的自動化過程控制功能允許快速設置和轉換,而無需手動調整。此外，通過全面的過程監測和診斷能力，可以優化過程產量和質量，同時提高可靠性和可用性。此外,2300 Versys的高級流程控制計算機（APCC）允許完整跟蹤和記錄流程配方參數和結果,同時提供實時數據采集和操作功能。APCC還有一個集成電源,大型機有多種模塊,可與多種工藝工具連接。最後,LAM RESEARCH 2300 Versys是一款高度先進的蝕刻/asching工具,具有完善的工藝控制和監控功能。該資產具有高度可靠、堅固的工藝室和智能控制，可提供高效、可靠的蝕刻和加工。此外，這種多功能平臺為許多生產工具提供了動力，使其非常適合現代半導體生產需求。
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