二手 LAM RESEARCH 2300 Versys #9195904 待售

LAM RESEARCH 2300 Versys是為高通量DRIE（深反應性離子蝕刻）和ICP（感應耦合等離子體）蝕刻應用而設計的先進蝕刻器/asher。該蝕刻器具有介電室和先進的前饋控制系統，是高通量生產環境的理想選擇。2300 Versys的前饋控制系統確保蝕刻過程高度均勻，使生產過程順暢且可重復。它還配備了高分辨率傳感器來監控關鍵蝕刻工藝參數，允許在整個工藝過程中進行微調控制。LAM RESEARCH 2300 Versys非常適合DRIE應用,因為它能夠實現高蝕刻速率和光滑的側壁輪廓,非常適合積極蝕刻介電材料。它在蝕刻環境中具有均勻的氣流，可以精確控制蝕刻速率以及可重復的結果。2300 Versys還提供高功率射頻（RF）源選項,包括ICP蝕刻源。這使得DRIE和ICP流程周期能夠按順序進行,從而提高了流程的靈活性和效率。此外,LAM RESEARCH 2300 Versys可以輕松集成到大型自動化生產環境中,從而允許大規模蝕刻應用。總體而言,2300 Versys是為ICP和DRIE應用程序設計的高級高通量蝕刻器/asher。由於其先進的前饋控制系統、均勻的氣流和高功率射頻源選項,該蝕刻器提供了精確且可重復的蝕刻工藝。此外,它可以輕松集成到大規模自動化生產環境中,使其成為高通量蝕刻應用程序的理想選擇。