二手 LAM RESEARCH 2300 Versys #9251504 待售

LAM RESEARCH 2300 Versys是一款高端蝕刻和灰燼處理設備，旨在滿足當今復雜的IC制造工藝的嚴格要求。2300 Versys采用了全新的前沿處理器,可實現更高的吞吐量、流程靈活性和改進的性能。LAM RESEARCH 2300 Versys包括一個雙面敏感器組件和一個升級的高真空渦輪分子泵，它提供快速的抽水時間和在大基板上均勻膨脹的過程氣體。它能夠加工最大晶圓尺寸為300 mm的大型基材，成為大批量生產的理想工具。2300 Versys提供先進的過程控制功能,其最先進的自動化系統可方便用戶編程、配方形成和參數設置。該單元包括了廣泛的加工能力，包括蝕刻、RIE（反應性離子蝕刻）、IBE（離子束蝕刻）、濕蝕刻和灰燼。灰分能力是基於專利的多區熱氧化物（MTO2）技術，使高均勻和可重復的氧化物生長在大基板上。除了自動控制機外，LAM RESEARCH 2300 Versys還提供先進的原位監測選項，包括多氣體探測器、光發射光譜和半球形反射儀。它的現場監測能力能夠準確測量工藝參數並確保生產質量。2300 Versys還具有多項工藝增強功能,例如獲得專利的縫隙填充工藝和改進的深度蝕刻輪廓。它是為滿足最嚴格的尺寸要求而設計的，與廣泛的薄膜耐電和導體材料兼容。該工具配置了集成的PECVD（等離子體增強型化學氣相沈積）工藝，能夠增強線寬控制。為提高產量和提高產量,LAM RESEARCH 2300 Versys采用集群工具配置,將蝕刻和灰分資產與其他模塊（如化學等離子體氣相沈積）、ALD（原子層沈積）、化學蝕刻和保形塗層結合使用。該型號還提供了一些附加的生產選項,如自動負載鎖定和自動盒式磁帶處理程序,以及可選的工藝樣品監控和全晶片反射率監控。綜上所述，2300 Versys是一款高性能蝕刻和灰燼設備，旨在滿足當今復雜的IC制造的高生產和工藝要求。它提供了先進的工藝控制功能、提高的吞吐量和跨大型基板的統一化學計量,以及廣泛的生產選項和現場監控選項,以確保工藝和生產質量。