二手 LAM RESEARCH 2300 #9083803 待售
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單擊可縮放
ID: 9083803
晶圓大小: 8"
優質的: 2004
Oxide etcher, 8"
Cass nest plastic, 8"
Wafer shape: SNNF (Semi notch no flat)
(4) Process chambers:
Position 1: 2300 Exelan
Position 2: 2300 Exelan
Position 3: 2300 Exelan
Position 4: 2300 Exelan
Front end load port cassette:
(3) Open cassettes iPX
Backing pumps for TM iPX
User interface option: Side and front monitor UI
Earth leakage breaker ELB
Signal tower
SECS / GEM
Plat from type: Version 2
2300 Exelan options:
Chamber type: 2300 Exelan CFE
Upper electrode heated
ESC Cooling dual zone
1600 L/S EDWARDS Turbo pump, 8"
Endpoint detection optical emission spectroscopy
Chamber isolation valve rocker gate valve
2300 Gas box:
Gas system type: Enhanced gas box II
Std stacking kits: 4 PM stacking kit
Gas line 12 gas configuration
Gas box inlet option: Regulated inlet gas panel
Gas filters: Standard filter
Gas box configuration:
PM1 MFC Type: Unit 1661 metal, digital
Line 1 Ar 1000 sccm
Line 2 O2 50 sccm
Line 3 N2 200 sccm
Line 4 O2 2000 sccm
Line 5 CHF3 100 sccm
Line 6 C4F8 20 sccm
Line 7 CH2F2 50 sccm
Line 8 C4F8 50 sccm
Line 9 CF4 100 sccm
Line 10 NSR70%He/30%O2100 sccm
Line 11 C4F6 20 sccm
Line 12 NSR Xe 300 sccm
Line 13 HeO2 20 sccm (Tuning gas)
PM2 MFC Type: Unit 1661 metal, digital
Line 1 Ar 1000 sccm
Line 2 O2 50 sccm
Line 3 N2 200 sccm
Line 4 O2 2000 sccm
Line 5 CHF3 100 sccm
Line 6 C4F8 20 sccm
Line 7 CH2F2 50 sccm
Line 8 C4F8 50 sccm
Line 9 CF4 100 sccm
Line 10 NSR70%He/30%O2100 sccm
Line 11 C4F6 20 sccm
Line 12 NSR Xe 300 sccm
Line 13 HeO2 20 sccm(Tuning gas)
PM3 MFC Type: Unit 1661 metal, digital
Line 1 Ar 1000 sccm
Line 2 O2 50 sccm
Line 3 N2 200 sccm
Line 4 O2 2000 sccm
Line 5 CHF3 100 sccm
Line 6 C4F8 20 sccm
Line 7 CH2F2 50 sccm
Line 8 C4F8 50 sccm
Line 9 CF4 100 sccm
Line 10 NSR70%He/30%O2100 sccm
Line 11 C4F6 20 sccm
Line 12 NSR Xe 300 sccm
Line 13 HeO2 20 sccm(Tuning gas)
PM4 MFC Type: Unit 1661 metal, digital
Line 1 Ar 1000 sccm
Line 2 O2 50 sccm
Line 3 N2 200 sccm
Line 4 O2 2000 sccm
Line 5 CHF3 100 sccm
Line 6 C4F8 20 sccm
Line 7 CH2F2 50 sccm
Line 8 C4F8 50 sccm
Line 9 CF4 100 sccm
Line 10 NSR70%He/30%O2100 sccm
Line 11 C4F6 20 sccm
Line 12 NSR Xe 300 sccm
Line 13 HeO2 20 sccm (Tuning gas)
2300 Peripherals:
DFC Backing pumps cust supply
DFC TCU Config lam supply: (4) 4080 Plus
Gas scrubber: EBARA GTE-3-0WVT
Power distribution module: RPDB
Dry pumps:
TM EDWARDS iPX 100A
PM1 EBARA AA100W
PM2 EBARA AA100W
PM3 EBARA AA100W
PM4 EBARA AA100W
No SMIF interface
2004 vintage.
LAM RESEARCH 2300 Exelan是專門為大批量生產半導體器件而設計的技術先進的蝕刻器和asher。Exelan能夠高速蝕刻和灰化,但仍能提供極其精確的結果。其獨特的半水化學工藝確保了一致的結構和表面質量。該設備能夠對矽晶片進行高通量蝕刻和灰化，一次最多可處理三個200毫米（8英寸）晶片。Exelan為流程自動化操作配備了高級流程控制和集成功能。其高精度的光學白光系統使該單元能夠進行精密和精密的蝕刻和灰化。其先進的自動化機器提供了一種本地化和靈活的控制策略，允許同時控制各種工藝參數。集成的機械臂有助於最小化循環時間,同時提供可重復的結果。機器的軟件控制提供了完整的過程控制和集成能力，t包括高精度光學配準系統、自動穩定控制系統、精密晶圓定向系統、集成機器人臂等廣泛的變量。該工具配備了廣泛的食譜庫，可用於具有類似處理要求的應用程序。Exelan還提供了一整套流程、診斷和數據分析功能。該資產具有自動裝卸晶片的工藝小型機器人.此外，該模型還內置了診斷工具，可以對蝕刻和灰化過程進行監測和分析。該設備還提供流程控制軟件,使工程師能夠調整流程以獲得最佳性能和效率。Exelan的模塊化設計實現了對其他功能的定制,如氮註入系統、再循環系統和其他化學輸送系統。該系統符合各種安全和環境標準，並通過了各種測試制度中的各種安全檢查。該單位已被證明有助於降低擁有成本，並提供較低的運營總成本。總體而言,2300 Exelan是一臺高級機器,能夠執行高性能的蝕刻和灰化任務。該工具非常適合大批量生產應用（例如半導體器件制造）,因為它能夠實現高時效和經濟高效的操作。資產的集成過程控制和自動化功能提供一致且可重復的性能,而其廣泛的過程、診斷和數據分析功能可確保過程優化和效率。
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