二手 LAM RESEARCH 2300 #9197892 待售
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已售出
ID: 9197892
優質的: 2011
Etcher
Model: Syndion
Flow rate:
Vibration: ±2%
Digital MFC
Gases Size Purity
C4F8 400 sccm 99.999% (5N)
SF6 1800 sccm 99.999% (5N)
Ar 200 scm 99.9995% (5N5)
O2 200 sccm 99.999% (5N5)
CF4 500 sccm 99.999% (5N5)
Pressure:
PM Pumpdown:
500mTorr
APC Valve open
LL Pumpdown:
80mTorr
Gate valve open
Temperature: ±2° C Vibration
Forward power: ±1% Vibration
Ref power: ±1% Vibration
Process module configuration:
Transport
L/L Chamber: Dry pump pumping speed: 37 m³/h
Etch process chamber (Type: Syndion)
Power system:
TCP Generator (AE 3000W)
Bias generator (AE 2000W)
Pressure system:
MKS Gauge (100mTorr / 500mTorr / 10000mTorr)
ESC (Monopolar)
Dry pump not included
2011 vintage.
LAM RESEARCH 2300是一種為制造微電子元件而設計的先進蝕刻器或asher。這種最先進的設備提供了在微芯片上創建精確模式和電路所需的精確控制，從而能夠為芯片系統、傳感器和微控制器等應用生產高性能組件。2300采用涉及物理氣相沈積（PVD）和化學氣相沈積（CVD）的多級蝕刻工藝，允許對包括鋁、銅和多晶矽在內的許多不同材料進行均勻一致的蝕刻。CVD工藝尤其用於薄膜的沈積和微芯片上的復雜圖案。LAM RESEARCH 2300支持了一系列的應用，包括亞微米圖樣的蝕刻、底物的變薄以及各層材料的沈積。由於其先進的技術，該系統還可以實現薄至100 nm或更低的半導體元件。2300的其他特性，例如其先進的控制單元，允許更高的精度、重復性和延長壽命。多虧了LAM RESEARCH 2300,才能以最低的複雜度實現準確一致的輪廓蝕刻。該機還以其出色的工藝可重復性（對於大批量生產至關重要）和基於配方的自動化工藝控制而聞名。總體而言，2300是生產高性能、可靠的微電子元件的寶貴工具。其精密的過程控制和可重復性能力，加上其廣泛的應用範圍，使其成為高精度微芯片蝕刻的理想選擇。
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