二手 LAM RESEARCH 2300e5 KIYO EX #293797205 待售
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單擊可縮放
ID: 293797205
晶圓大小: 12"
優質的: 2015
Polysilicon etcher, 12"
(3) Cassettes
TDK TAS 300 Loadport
KAWASAKI NT510 Robot
Chamber type: Kiyo E PM1, PM2, PM3, PM4, PM5
KASHIYAMA MU100XU-200 Loadlock pump
(5) EDWARDS IXM600M Chamber pump
MARUYAMA HCL203-LD Chiller
SECS II Interface
(2) Channels
Chamber position PM1, PM2, PM3, PM4, PM5:
EDWARDS STP-XA2703CV
ADVANCED ENERGY Apex 1513 RF Generator
ADVANCED ENERGY Paramount
Gas box configuration:
PM1: P/N 571-065780-xxxx
PM2: 571-065780-702
PM3: 571-065780-H7829
PM4: 571-065780-H7829
PM5: 571-065780-H7829E
Line / Gas / Size
1 / SiCl4 / 100 sccm
2 / BCl3 / 500 sccm
3 / CHF3 / 300 sccm
4 / CH3F / 300 sccm
5 / CH2F2 / 100 sccm
6 / C2H4 / 20 sccm
7 / CF4 / 200 sccm
8 / SF6 / 200 sccm
9 / Cl2 / 500 sccm
10 / HBr / 500 sccm
11 / O2 / 300 sccm
12 / N2 / 500 sccm
13 / NF3 / 500 sccm
14 / He / 500 sccm
15 / Ar / 500 sccm
16 / H2 / 200 sccm
Tuning / O2 / 50 sccm
STG / He / 300 sccm
Signal lamp tower
Cables
Operating system: Windows 10
CE Marked
Power supply: 208 V, 3 Phase, 400 A
2015 vintage.
LAM RESEARCH 2300e5 KIYO EX蝕刻/灰分設備是一種重型多室系統,設計用於各種深層蝕刻和灰分工藝,用於先進的半導體器件制造。KIYO EX用於生產高長寬比蝕刻結構，精度很高，蝕刻深度範圍很廣。它配有用於精確基板定位的5軸表和多種蝕刻和灰燼工藝室，包括低壓化學氣相沈積單元、深反應性離子蝕刻器（RIE）機和感應耦合等離子體（IPC）工具。該資產與厚度可達4mm的常規晶片和Pyrex晶片兼容。KIYO EX的RIE型號配備了更新的硬件和軟件組件，使Si、SiGe、SiC等一系列矽基材料中的深而窄的溝槽能夠實現高速、精確的蝕刻。它還包括一個具有廣泛氣體混合物和射頻頻率的連續等離子體源，允許精確調整蝕刻速率和深度剖面。IPC設備具有寬/凸起的源天線和較大的有效區域,能夠對難以蝕刻的材料進行低功率操作。它還配備了一個板載除簇模塊和特定材料調整蝕刻參數的能力。KIYO EX系統還提供了幾種流程自動化功能，如晶圓映射和腔室清除，以提高流程的可重復性和正常運行時間。它還通過光學、熱和計量模塊集成支持先進的基板處理和質量控制。高級過程控制選項（如閉環蝕刻監測）也允許精確的過程優化。除了廣義蝕刻和灰燼處理之外,還可以為各種高級處理和特征大小配置該單元。2300e5 KIYO EX蝕刻/灰分機具有靈活的加工能力，為晶圓制造提供了一個功能廣泛、功能強大的平臺。
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