二手 LAM RESEARCH 300NX #9375202 待售

LAM RESEARCH 300NX是一種用於半導體工業薄膜沈積工藝的Etcher/Asher設備。該系統是一種多室真空沈積裝置，可分批、單片、順序生產等方式運行。該機由三個主腔室組成，每個主腔室都有自己的工藝氣體控制以及能夠疏散到10-7 mBar的基壓。第一室是裝載室，有一個用來固定晶片的裝載鉗和一個能夠支撐多達五個晶片的平臺。晶片加載後，腔室通過渦輪泵排空，達到所需壓力。第二個腔室是主工藝腔室，其中包含控制反應性離子蝕刻過程的靜電離子源。這是一個直流偏置源，直流電，用於向蝕刻過程提供離子能量。此外，工藝室還包含一個等離子體發生器，該等離子體發生器帶有一個集成的加熱器，用於控制蝕刻過程中的溫度分布。第三室是通風室，壓力釋放到大氣層。300NX提供了提高吞吐量、改進過程控制和一致性以及提高過程可重復性的幾個功能。它配備了精確的橢圓卡盤，以確保晶片和離子源之間的正確對準，以及最大限度地提高蝕刻均勻性和可重復性的自動導引特性。該工具還提供3D端點檢測和基板溫度映射,以便用戶可以監視過程端點並檢測溫度變化。LAM RESEARCH 300NX采用不銹鋼制造，設計符合1級潔凈室標準，為日常蝕刻加工提供無塵環境。中央控制面板提供直觀的工作環境,使具有不同級別經驗的用戶能夠操作資產。其穩定性和可修復性使其成為所有半導體蝕刻應用的高度可靠的模型。