二手 LAM RESEARCH 4420 XL #9173005 待售
網址複製成功！
ID: 9173005
Lot of spare parts:
Qty Part number Description
(2) 715-011753-001 Upper baffle (Upper chamber process Kit 6")
(2) 715-011286-080 Lower baffle (Upper chamber process kit 6")
(2) 715-019773-206 Upper electrode (Upper chamber process kit 6")
(2) 716-011573-001 Upper ceramic ring face (Upper chamber process kit 6")
(2) 715-011568-001 Upper clamp electrode ring (Upper chamber process kit 6")
(2) 718-094721-26 6" JMF Electrostatic chuck (ESC) (Lower chamber process kit 6")
(2) 715-140536-001 Focus ring 6" JMF (Lower chamber process kit 6")
(2) 715-030231-003 Edge ring 6" JMF (Lower chamber process kit 6")
(2) 716-011451-001 Ceramic filler ring 6" JMF (Lowerchamber process kit 6")
(2) - MFC Cl2 200sccm
(3) 768-099511-001 Vacuum switch.
LAM RESEARCH 4420 XL是一款最先進的蝕刻器/asher，專為種植和加工半導體材料而設計。LAM RESEARCH 4420XL具有先進的工藝室,其蝕刻速率高達340 nm/min,能夠達到400 °C的最高工藝溫度。這使得半導體材料能夠快速高效的蝕刻和粉刷。此外,4420 XL還集成了一個獨特的現場測量系統,可提供有關蝕刻或灰化過程進度的實時數據和反饋。該系統還具有增強的監控界面，可實現更精確、更精確的操作。4420XL特別適合於金屬蝕刻和圖樣加工，即在基板上形成精確金屬結構的圖樣。整個過程高度自動化，LAM RESEARCH 4420 XL憑借其先進的冷卻系統和適應性的功能集，一次流程運行最多可處理400個晶圓，速度高達50個晶圓/小時。自動裝載和卸載基板也由自動盒式磁帶處理程序啟用。LAM RESEARCH 4420XL還配備了一整套流程控制模塊,能夠精確控制蝕刻和灰化過程。4420 XL除了標準蝕刻和灰化外，還具有獨特的蝕刻後向上蝕刻特性，能夠在不幹擾底層的情況下，從半導體表面選擇性去除一層氧化材料。這對於形成經常用於工業生產的多層金屬結構特別有用。總體而言，4420XL是一個先進的蝕刻器/asher，設計用於生長和處理半導體材料。它能夠實現高精度的高吞吐量，並具有獨特的特點，使其特別適合先進的半導體工藝。
還沒有評論