二手 LAM RESEARCH 4420 #199860 待售

LAM RESEARCH 4420是一種為化學氣相沈積（CVD）和蝕刻工藝而設計的蝕刻器/灰化器。它有四個同時的腔室，允許用戶運行兩個蝕刻和兩個沈積過程，以便進行有效的化學加工操作。該模型適用於廣泛的蝕刻和沈積過程，包括金屬、塑料、陶瓷和粘合劑。4420提供了一個通用且用戶友好的界面,使用戶可以輕松地對設備進行編程、監控和控制。LAM RESEARCH 4420 蝕刻器/asher設有雙室環形室和RF/DC電源，讓使用者產生各種等離子體特性，以配合他們的應用要求。腔室有能力容納大於6英寸的晶圓尺寸，從而實現更大的沈積面積。該模型具有高達450°C的溫度能力，可與一系列工藝氣體一起使用，包括Ar、N2、Oxygen、SF6和CH4。該模型設計有一個鎖載室，允許從腔室自動裝卸晶片。此功能有助於減少加載和卸載時間,並提高工作效率。4420還具有獨特的兩機系統，允許兩批晶圓用單獨的配方獨立處理。這給了操作員更多的控制權，為他們的生產需求創造了更大的靈活性。LAM RESEARCH 4420由LAM RESEARCH Process Expert Unit （XPES）軟體套件提供動力，該套件旨在簡化機器的運作。用戶可以輕松地通過XPES軟件對其流程進行編程和監控,從而控制其配方、設置時間和流程條件。XPES還提供了一系列診斷和報告功能,允許用戶快速識別任何工具問題並進行相應的故障排除。XPES軟件還與一系列行業標準數據格式和操作系統兼容,使其成為集成到現有網絡的理想資產。4420旨在提供易於編程和控制的可靠蝕刻和沈積解決方案。雙室設計和高效的工藝室為用戶提供了多種選擇，並支持廣泛的應用。用戶友好的XPES軟件套件有助於簡化模型的操作,並使用戶能夠快速識別任何問題,快速做出響應並獲得高質量的結果。