二手 LAM RESEARCH 4420 #9103269 待售

LAM RESEARCH 4420是一款為半導體應用而設計的蝕刻器/asher。它非常適合進行蝕刻、金屬沈積和抗剝離工藝。此工具將高吞吐量與顯著改進的過程控制和可重復性結合在一起,從而縮短了周期時間和準確性。它具有單批處理多達二十四個晶片的能力。4420蝕刻室可容納200毫米和300毫米晶圓。它配備了高壓熄滅閥和包括直流磁控管、微波等離子體、直流偏置在內的多種電源。電子輔助沈積（EAD）和反應性氣體沈積（RGD）這兩種沈積源以低得多的成本提供了優良的沈積膜。氧化物蝕刻和氮化物蝕刻等離子體源在同一設備中運行，從而實現雙蝕刻操作。LAM RESEARCH 4420蝕刻器提供一致的蝕刻輪廓,具有高可重復性。它在多個晶片的面積上提供統一的配置文件應用程序,以實現高吞吐量。該系統對腔室壓力、射頻偏置功率、射頻屏蔽功率、射頻轉發功率、蝕刻等離子體脈沖速率等關鍵過程變量提供了良好的控制。4420蝕刻裝置配備了先進的數據采集技術。它借助非接觸溫度傳感器和非接觸晶圓半徑傳感器捕獲有關氣流、大氣條件和廢氣值的數據點。一種先進的氣流輸送機，帶有逐流排氣閥，能很好地控制蝕刻過程。LAM RESEARCH 4420還采用了先進的診斷設備,包括自動工藝能力分析、產量分析和SPC。為方便用戶,簡化了設備診斷和維護程序。自動清除工具無需手動清洗操作。4420采用最新的prober和wafer處理技術設計了長期可靠性。其標準周期時間為30分鐘，最長處理時間為1小時。其最大吞吐量為100-200晶圓/小時。這項資產是為精確的過程控制、可重復性和長期可靠性而設計的。