二手 LAM RESEARCH 4420i #9043961 待售

LAM RESEARCH 4420i Asher是一種多功能蝕刻設備,專為復雜的晶圓圖案而設計。它是一個能夠替代多種蝕刻化學和蝕刻配置的平臺，允許各種應用。它具有一個長腔室，允許更大的晶片與更復雜的模式，加上廣泛的掩模尺寸。4420i的最先進的組合氣體輸送系統和統一的射頻功率匹配確保了精確和可重復的過程控制,而其獨立的氣體混合能力允許特別高的過程靈活性。LAM RESEARCH 4420i能夠進行幹濕蝕刻工藝。支持各種濕蝕刻工藝,並提供可選附件,如石英和陶瓷載體,用於更廣泛的蝕刻應用。4420i通過其最先進的射頻功率匹配協議,實現了精確的重復性和對蝕刻深度的控制。LAM RESEARCH 4420i配備高速載荷鎖，使晶片在安全惰性的氣氛中快速裝卸。先進的陰極耦合晶源可確保整個晶片的蝕刻速率非常一致。此外，4420i能夠支持高溫和低溫工藝，在丙烯醛糊劑聚合等應用中達到高達550°C的溫度。LAM RESEARCH 4420i由LAM RESEARCH專屬FABIS-P單元提供動力，允許非常精確的過程控制。通過自動平衡諸如功率、溫度、氣體壓力和工藝時間等工藝參數,FABIS-P可確保從一個晶片到另一個晶片的工藝盡可能一致。機器也可以調整以滿足特定的工藝要求，從而產生高度精確的蝕刻工藝。在確保一個非常可靠的過程中，4420i提供了石英鐘隔離、獨立加熱區、工藝氣體混合和柔性晶片圖樣加載等其他功能。其長石英室確保每厘米蝕刻表面暴露於相同的蝕刻參數，而其鎖載室降低汙染風險，允許多個晶圓程序在一個周期內運行，降低晶圓對晶圓的可變性。最後，它的高精度射頻匹配系統和功率斜坡保證了可重復性和均勻性。所有這些功能結合起來，使LAM RESEARCH 4420i成為高度通用和可靠的蝕刻工具。適用於多種蝕刻應用，如半導體器件制造、光掩模制作、MEMS和Bio-MEMS生產等特種蝕刻應用。