二手 LAM RESEARCH 490 #83458 待售

LAM RESEARCH 490是一種先進的重型反應性離子蝕刻（RIE）設備，用於半導體晶片的蝕刻、清潔和其他表面處理。該系統利用最先進的硬件和軟件在從矽到電介質和金屬再到復合半導體的各種材料中提供高度可靠和可重復的結果。490標配0.1 um分辨率激光幹涉儀和光學輪廓儀,以確保精確的蝕刻輪廓。等離子體是通過對化學反應氣體施加高能電場，或者通過將產生等離子體的氣體加熱到虛擬的「雪崩」而在隔離室內產生的。蝕刻食譜可以根據特定需求定制。LAM RESEARCH 490還利用懸浮基板支架和支撐結構，使各種材料能夠進行各種蝕刻工藝。此外，490配備了可以適應任何工藝要求的壓力控制系統。LAM RESEARCH 490能夠產生非常高的刻蝕縱橫比,深度在0.05-1 um之間.它還具有低負載點反應物控制單元（LLRC），可以精確控制反應物通量和整個底物的均勻性。離子可以選擇性地沈積在底物上，減少不需要材料的去除。490具有獲得專利的射頻電感耦合等離子體（RFICP）源。這允許原位等離子體診斷，與脈沖調制光譜和發射成像的等離子體。此功能對於分析蝕刻工藝以優化蝕刻工藝條件和提高吞吐量至關重要。LAM RESEARCH 490有幾種選擇，以減少關鍵材料的共沈積，並消除任何回潮的可能性。這是運行大批量基材時的一大成本節約。490使用低真空排氣，確保反應室完全撤離，不留副產物或反應產物痕跡。LAM RESEARCH 490還配備了先進的安全機器,內置冗余以確保工作環境不間斷。490通過CE和CSA控制合規性認證,確保符合最高安全標準,並且能夠在任何環境中使用。總體而言，LAM RESEARCH 490是半導體生產過程中必不可少的工具。其先進技術產生精確、可重復的效果，其安全系統超越行業標準。490是半導體行業任何蝕刻或清潔要求的理想選擇。