二手 LAM RESEARCH 490 #9094106 待售

ID: 9094106
晶圓大小: 4"-6"
Automatic plasma etcher, 4"-6" Process: polysilicon, refractory metal silicides and nitrides Wafer alignment capabilities Built-in wafer transport mechanism Computer controlled I/O: runs, executes recipes, hazard warnings and malfunctions Currently non-operational in a cleanroom.
LAM RESEARCH 490 蝕刻器/asher是一種高效、高通量的晶圓蝕刻和灰化設備,為各種工藝提供了高度的靈活性。該系統采用先進的設計技術來提供可預測的過程結果。它非常適合低k、高密度互連、研發應用和半導體器件的生產加工。490是一個單室單元,由兩個主要組件組成:反應性離子蝕刻器和Asher(RIEA)和RF電源。RIEA利用磁約束電弧產生蝕刻過程。利用負電勢在晶圓和陰極之間產生電弧。電弧噴霧使用水冷的ETCH同心環聚焦,以限制離子的運動並將離子引向晶片。射頻電源為優化的等離子體產生提供了可調直流功率(範圍從0到500W),獨立於腔室壓力。該機器完全集成且易於使用,具有靈活的軟件體系結構和內置的安全功能,可提供過程控制功能。此外,該工具具有較高的可重復性、較快的循環時間和較低的晶圓扭曲風險。LAM RESEARCH 490提供了廣泛的蝕刻和ashing選項,並提供了一個可定制的流程庫,允許用戶根據其特定應用程序定制資產。該模型的設計采用了廣泛的清潔化學方法,同時實現了高通量和高度控制的蝕刻和灰化工藝。490的設計符合或超過了幾個半導體制造行業標準的要求。符合ISO 9001:2015、US FDA 21 CFR Part 11、SEMI Sec 7。LAM RESEARCH 490是半導體行業任何蝕刻和灰化應用的絕佳選擇。它為執行各種蝕刻和灰化過程提供了高效、高效、高通量的設備,具有高度的過程控制、可重復性和安全性。
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