二手 LAM RESEARCH 490 #9277853 待售

LAM RESEARCH 490 蝕刻器/ascher是一種高性能化學氣相沈積（CVD）設備，設計用於在半導體晶片上高效生產薄膜沈積。該系統能夠以高精度和重復性沈積電介質、聚合物和半導體材料。490提供了簡單明了的圖形用戶界面和直觀的操作單元,旨在最大程度地減少用戶輸入,同時最大限度地提高吞吐量。LAM RESEARCH 490具有兩個獨立的沈積室，能夠同時將兩種不同的材料沈積在同一基質上。這使得快速高效地創建復雜的結構成為可能。490利用低成本石英反應器對聚合物、電介質和半導體材料進行化學氣相沈積而不暴露底物。反應堆配有內部加熱器，可進行精確的溫度控制和氣流管理，從而實現高質量層的高度可重現沈積。這保證了從存款到存款的良好均勻性和可重復性。LAM RESEARCH 490為復雜材料的沈積提供了一系列可編程的工藝參數。可以調整基板溫度、壓力、氣體流量、腔室壓力、氣體類型等參數，以優化工藝。此外，該機器還提供了空氣屏蔽設計，有助於經濟高效的大規模生產，同時降低晶圓汙染的風險。490還具有過程監控系統,以確保沈積均勻性,從而無需昂貴的過程監控設備。它內置的排氣工具允許仔細管理腔室排氣，提供改進的過程控制和更長的部件壽命。總體而言,LAM RESEARCH 490蝕刻器具有很高的性能和靈活性,非常適合在半導體晶片上沈積薄膜的任何應用。490具有強大的特點和經濟效益，是快速、高質量生產多種薄膜沈積類型的理想解決方案。