二手 LAM RESEARCH 590 #9027423 待售

ID: 9027423
晶圓大小: 6"
Oxide etcher, 6" Fully automated microprocessor control High-throughput vacuum loadlocked Programmable, variable electrode spacing End point detection Cassette to cassete Can accommodate 3" to 6" wafers (5) Gas channels max RF power: 1,250 W @ 13.56 MHz 208 VAC, 3 phase, 60 Hz.
LAM RESEARCH 590是一種用於半導體器件制造的蝕刻/asher設備。它能夠處理直徑達300毫米的晶片。590采用雙腔「UniClave」設計,允許同時處理的晶片數量增加一倍,從而有助於提高生產率。該系統還具有分布式加熱裝置、先進的腔室幾何形狀和高效的抽水設計,具有優異的熱性能和較低的沈積速率。此外,LAM RESEARCH 590還采用了電致沈積(epd)技術,可在工藝周期中精確控制蝕刻圖樣和厚度。它具有先進的特點,是處理先進技術節點和應用的理想機器。該工具具有自動加載和卸載功能,能夠以單片和多片配置加載。590還包含先進的晶圓映射資產,可實現精確的過程控制。真空電平監視器配置為向操作員發出潛在損壞基板表面的警報。此外,LAM RESEARCH 590包括雙串聯編程和診斷功能,可實現快速、精確的流程周期設置和調整。590蝕刻器還配備了一個集成的高性能GaAs蝕刻器,用於毛毯和線端工藝,對設備表面的損害最小。最後,LAM RESEARCH 590 Etcher/Asher模型采用濕/幹工藝循環,有助於降低熱應力並提高總產量。這使得它成為先進技術節點和應用的理想候選者。它還提供了一個強大的解決方案,以高吞吐量速度提供精確、高質量的蝕刻,為用戶提供在半導體制造行業中保持競爭力所需的準確性和生產率。
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