二手 LAM RESEARCH 590 #9100791 待售

ID: 9100791
晶圓大小: 4"
Oxide etcher, 4" High throughput Vacuum loaded-locked Automated microprocessor control ENI OEM-6 Generator: 13.56 MHz, 650 Watts Printer Pneumatic loader mechanism Pumps Power supply: 208 V, 60 Hz, 3 Phase.
LAM RESEARCH 590是一款高性能的精密蝕刻器/asher,設計用於處理高長寬比和3 D微電子結構。它利用最新的軟件為各種材料和工藝中的蝕刻和灰化應用提供全面的能力。590因其高吞吐量配置和靈活的工藝模塊而適合工業生產。LAM RESEARCH 590室采用陶瓷和鈦制,提供耐化學性和耐高溫性能。它配備了五個電磁線圈,在蝕刻區域提供均勻的直流電磁場,保證了均勻蝕刻和高選擇性。電極提供穩定且可重復的直流偏置調節,提供廣泛的蝕刻深度。一個獲得LAM專利的電子-回旋共振(ECR)源用高頻等離子體點燃過程,從而產生選擇性高、副產物少的有效蝕刻。其專有的氣體動態壓縮機設備以均勻的氣流和徑向等離子體輸出提供低壓蝕刻,從而產生高分辨率蝕刻。590采用LAM的專利電腦自動取樣及處理系統(CASH)進行有效的取樣及等離子體辨別。用於自動晶片處理和對準的擋板識別技術(BRT)確保了模具級的最佳精度。該機器能夠容納範圍廣泛的晶圓尺寸,從5mm到7.5"。LAM Motion Control Unit (LMS)為LAM RESEARCH 590提供了先進的運動控制技術,允許快速準確地以吞吐量放置樣品。集成的自動化工藝配方提供了具有最佳參數的高效、可靠的蝕刻。先進的真空機有幾個特點,提供均勻蝕刻和減少顆粒汙染。例如,熱冷真空抽水工具是專門為防止宏觀微粒汙染而設計的,而有源的背面壓力監測儀則防止任何宏觀汙染晶圓背面。590是可靠、用戶友好的高吞吐量資產。其先進的自動化和控制保證了可重復性和高產率。LAM RESEARCH 590具有多種特點,在工業、MEMS和3D微電子結構的精密蝕刻和灰化方面非常有效。
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