二手 LAM RESEARCH 839-019080-611/A #293658874 待售

LAM RESEARCH 839-019080-611/A是一種先進的蝕刻器/asher,它能夠精確、一致地從表面去除蝕刻劑和其他材料,從而滿足半導體封裝和高密度互連行業的超精度圖樣設計需求。這種高度先進的蝕刻器/Asher具有最先進的雙堆疊蝕刻和Asher冷卻設備,可確保均勻的加工溫度,從而產生高度均勻的斷裂模式、優越的產量、高長寬比和改進的均勻性。雙堆棧冷卻系統采用逆流設計，以確保最佳性能和可重復結果。該單元還包括一個先進的德加和蝕刻技術，以簡化灰化材料的過程，同時保持一個低粒子計數。LAM RESEARCH 839-019080-611/A具有高速、自適應的精密蝕刻和灰分處理功能,集成了氣體分配和排氣機,可提供快速的工藝周期時間、最小的蝕刻底切和均勻的蝕刻/灰分速率。它支持多種蝕刻化學方法,為較小的特征和高寬高比特征提供了卓越的工藝,這需要在5納米特征邊緣內運行的工藝。LAM RESEARCH 839-019080-611/A還包括在蝕刻過程中增強特征的退火循環,以減少特征的排汗和削弱。先進的網絡控制器允許對蝕刻過程進行動態控制,以便對運行計數、蝕刻速率、灰分速率、溫度和分析技術進行嚴格控制,以實時監控狀況。839系列還包括動態安全協議，以確保持續安全運行。它采用先進的無功離子蝕刻（RIE）工具，對等離子體密度、功率和基板溫度進行嚴格控制，以便對工程材料進行精確蝕刻。它還有一個自動壓力-真空循環，使反應室保持「作為新的」清潔水平。開放式體系結構允許輕松集成到現有的制造生產線中,並且該資產易於升級以用於將來的擴展和集成。用戶界面提供簡單的導航和對蝕刻和灰處理的完全控制。LAM RESEARCH 839-019080-611/A在要求最苛刻的過程中提供蝕刻/灰分要求所需的速度和精度。