二手 LAM RESEARCH 852-011061-103 #293661544 待售

ID: 293661544
Lower chamber assembly Part number / Description 715-011665-004 / Cap, lower electrode, 4” 716-011624-001 / Ring, ceramic 716-011570-001 / Filler, orifice, W/C, ceramic 715-011035-001 / Plate, lower end (Reaction chamber) 716-011623-001 / Ring, clamp 853-013540-002 / Heated chamber manifold assembly 853-025103-003 / Lower match box assembly.
LAM RESEARCH 852-011061-103是一種為生產過程而設計的蝕刻器/asher設備。該系統能夠處理各種化學物質,用於各種應用,包括氧化物蝕刻、光致抗蝕劑剝離和等離子體清洗。852-011061-103有一個專用的裝載臂,並與一個單一的加工室一起操作,這樣就可以對多個晶片進行高效和同時的處理。該單元設計為提供嚴格的過程控制,能夠實現精確的蝕刻輪廓具有高度的可重復性。為了確保精確的過程結果,該機器采用了一系列高精度的運動控制系統,包括機械視覺工具進行登記和一個飛眼組件定位資產。該型號配備自動裝卸站,標配直列式裝載機,允許連續運行,無需手動處理部件。設備還配備了溫度控制系統,在工藝室蓋上保持最佳溫度,在運行過程中保持穩定。此外,它還設有一個粒子監測裝置,用於檢測可能存在的任何粒子或汙染物。LAM RESEARCH 852-011061-103采用封閉式蝕刻室,具有低溫、低功率真空。這種真空能夠進行深蝕刻過程和高保形蝕刻過程,從而允許具有高選擇性和精確特征的等離子體蝕刻。該機還具有廣泛的自動切換氣體系統,可用於生產過程中不同步驟的多個氣源之間的自動切換。此外,852-011061-103還配備了壓力控制系統和壓力控制監控器,以檢查等離子體在加工過程中的穩定性,確保安全可靠的蝕刻。該工具還設計了一個用戶友好的圖形用戶界面,允許用戶設置參數、定義配方以及從安全距離監控資產性能。LAM RESEARCH 852-011061-103是一種可靠高效的蝕刻模型,旨在提供行業標準的結果。該設備具有強大的設計、精確的控制和廣泛的功能,是任何需要高度精確和可重復性的生產過程的理想選擇。
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