二手 LAM RESEARCH 9400 #9152576 待售

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ID: 9152576
晶圓大小: 4"
Etcher, 4" Turbo pump: STP A2203C2 Gate Valve: VAT65 VAT Controller: PM7 Chamber manometer: 0.1Torr, 629A-13799 Turbo manometer: 10 Torr, 925A117DE Roughing valve manometer: 10 Torr, 925A117DE He manometer: 0-100 Torr He UPC: 50sccm Gas: He 50sccm FC7700C Gas: Ar 50sccm FC7700C Gas: Cl2 50sccm FC7800C Gas: Bcl3 50sccm FC7800C Gas: O2 50sccm FC7700C Gas: CF4 50sccm FC7700C Gas: N2 2SLM FC7700C Software: Envision.
LAM RESEARCH 9400 蝕刻器/aser是一種用於蝕刻、灰化和清潔集成電路(IC)基板的全交鑰匙幹法設備解決方案。9400利用高速、化學反應驅動的加工提高了吞吐量、準確性和可靠性。LAM RESEARCH 9400具有具有高溫功能的模塊化平臺設計,為各種蝕刻和灰化應用程序提供一致的性能。9400專為高吞吐量應用而設計,是業內使用最廣泛的蝕刻機之一。LAM RESEARCH 9400的尖端模塊化體系結構為特定應用程序提供了最大的流程靈活性和定制配置。標準配置包括加工室、負載鎖、過程氣體管理、過程填充/排水系統和負載操縱器。此外,9400還配備了最新的流程自動化、維護和控制系統,以確保準確、可靠和可重復的操作。LAM RESEARCH 9400提供超高速蝕刻和高級、超薄膜和II-VI (MIV)介電材料的灰化,以及多層介電、金屬和通過層的精確蝕刻。它具有較大的蝕刻區域,可提供高吞吐量、作業之間的快速周轉和快速的處理時間。9400還提供多種蝕刻工藝,包括CF4、CF4/O2、CHF3/CF4、CHF3/O2、N2O等,使其成為先進行業應用的絕佳選擇。LAM RESEARCH 9400標配三個獨立的反應室,一個工藝和提取室,以及一個濕蝕刻室和輻照室。此外,還有一種高功率的氧/乙炔源可用於高溫加工。9400為最高精密蝕刻和灰度設計,提高了可靠性和可重復性。它提供了高度的工藝控制,包括根據晶圓直徑調整蝕刻時間和調整基板水平的氣流的能力。它還能夠對光致抗蝕劑、金屬和介電層進行圖樣化和批量蝕刻。LAM RESEARCH 9400可以加工尺寸達300 mm的基板,是當今最先進的蝕刻器之一。其高速、精確的性能和模塊化架構使其成為各種晶圓處理應用的理想選擇,包括MEMS、LED、LED封裝和半導體器件生產。
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