二手 LAM RESEARCH 9600 #9354013 待售
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ID: 9354013
Etcher
Etch aluminum metal and TiW layers
With vertical sidewalls suitable: 0.35 um line width
Plasma medium-high density transformer coupled plasma
Top electrode power and platen lower electrode power
Water cooled platen
Backside gas: He
C12/BC13 Chemistry used for Al and SF6 for TiW Layers
TiW Etching
Cl-Passivation step
Cl-Chemistry: AI203 Layers and silicon trenches
With minimum undercut
Process gases: CI2, BCI3, HBr, SF6, CF4, Ar, N2, 02, He
Process pressure: 0-100 mTorr
Top electrode power: 0-1250 W
Lower electrode power 0-1200 W
Process temperature: 55°C
Adjustable monochromator
Endpoint detection
With Decoupled Source Quartz (DSQ) strip module
AI Etching:
Standard recipe: 600/601
Etch rate: 800 nm/min
Photoresist etch rate: 400 nm/min
AI203 Etching:
Standard recipe: 640
Etch rate: 100-120 nm/min
Substrate, 6" diameter
Materials:
AI
AI203
Ti02
poly Si
Nb
Nitrides .
LAM RESEARCH 9600 Etcher/Asher是一款全自動、超高通量、最先進的蝕刻器和Asher。它是一種多腔設備，可以處理各種各樣的基板。制作復雜而精確的功能是9600構建得非常好,同時保持長時間的過程無人值守的運行時間。LAM RESEARCH 9600旨在同時支持多種配方相關流程。這在可能需要連續運行變量或不同過程的制造環境中非常有用。9600為用戶提供了在蝕刻、鈍化和退火等三種主要工藝之間進行選擇的靈活性。這種靈活性是由它的四個集成工藝室實現的，每個室能夠對多達4個晶圓執行單獨的工藝。蝕刻室是獨一無二的，因為它允許使用多種化學氣體，如氟、三氯化硼、氧、三氟化氮、六氟化硫和二氧化氮。鈍化室設計為執行蒸氣化學過程，對晶片進行一層防熱、防濕、防化學汙染的處理。為了提供盡可能高的吞吐量，LAM RESEARCH 9600配備了垂直和水平傳遞機制。水平轉移選項是一個自動化的裝卸平臺，允許材料在加工室之間高速移動。這在處理大批量時特別有用。9600提供對整個工藝室的溫度、壓力和氣流的超精確控制。這種精確的控制能夠創建極其精確的特征,並具有精確的深度和寬度公差。集成計量學監視器跟蹤整個系統的過程參數，允許更高的收益率，減少周期時間，更好的過程優化。LAM RESEARCH 9600是一款功能強大的基於x 86的CPU,具有業界公認的Linux®操作單元,能夠管理多達200種食譜。穩定、可重復的結果有助於確保最高的蝕刻和鈍化質量,並以最小的人工幹預。9600是一個可靠的解決方案,適用於需要可靠、高效的蝕刻器/asher的用戶。其多腔機床、精密控制、自動化裝卸平臺，為滿足當今復雜蝕刻鈍化工藝的需求提供了必要的能力。
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