二手 LAM RESEARCH A 9608 PTX #9217816 待售
網址複製成功！
單擊可縮放
ID: 9217816
晶圓大小: 8"
優質的: 1998
Metal etcher, 8"
Integrated gas panel
Mainframe:
Alliance 6 rainbow standalone
TCP Standalone
Alliance A2
Alliance A4
Alliance A6
Chamber:
PM 1 / Microwave
PM 2 / 9600PTX
PM 3 / 9600PTX
PM 4 / Microwave
PM 5 / Aligner
PM 6 / Cool station
Box 4:
Electrostatic chuck
Turbo pump on process chamber
VAT65 Turbo gate valve
Endpoint detection system
Endpoint type: Photodiode
CD Rom manuals included
Alliance:
MAG7 Robot
Dual blade
VCE6
VCE: Rotation
VCE Seal: Dynamic seal
Signal lamp tower
Heated gate valve (PM2, PM3)
Turbo pump:
PM 2 / SEIKO SEIKI / H1303CV3
PM 3 / SEIKO SEIKI / H1303CV3
RF / Microwave generator:
PM 1 Top / MKS / CPS
PM 2 Top / ADVANCED ENERGY / RFG 1250
PM 2 Bottom / ADVANCED ENERGY / RFG1250 HALO
PM 3 Top ADVANCED ENERGY / RFG 1250
PM 3 Bottom / ADVANCED ENERGY / RFG 1250 HALO
PM 4 Top / MKS / CPS
GAS:
Make / Model / Gas / Flow
TYLAN / FC-2950MEP5 / N2 / 1000
TYLAN / FC-2950MEP5 / O2 / 5000
STEC / - / BCL3 / -
STEC / - / CL2 / -
TYLAN / FC-2950MEP5 / N2 / 200
TYLAN / FC-2950MEP5 / O2 / 200
TYLAN / FC-2950MEP5 / CHF3 / 100
TYLAN / FC-2950MEP5 / AR / 50
TYLAN / FC-2950MEP5 / BCL3 / 200
TYLAN / FC-2950MEP5 / CL2 / 200
TYLAN / FC-2950MEP5 / N2 / 200
TYLAN / FC-2900M / O2 / 200
TYLAN / FC-2950MEP5 / CHF3 / 100
TYLAN / FC-2950MEP5 / AR / 50
TYLAN / FC-2950MEP5 / N2 / 1000
TYLAN / FC-2950MEP5 / O2 / 5000
1998 vintage.
LAM RESEARCH A 9608 PTX是一種各向異性蝕刻器/asher，設計用於提供精確的等離子體化學氣相沈積（CVD）蝕刻。它已成為先進光刻和等離子體增強化學氣相沈積（PECVD）工藝的一種備受追捧的工具。它用於晶片的高質量蝕刻，具有非凡的精度、可重復性和均勻性，其特征尺寸不超過納米。LAM RESEARCH A9608 PTX是內部生產工具交換（PTX）蝕刻工藝的行業標準。它提供了與生產工具交換（PTX）相同的工藝控制和可重復性，並在最嚴格的工藝條件下提供了優越的蝕刻特性。該設備提供了一個非常寬的工藝窗口，可以蝕刻各種基材，包括矽、金屬合金、氮化物和氧化物。9608 PTX支持在沒有真空系統的情況下對金屬進行先進的濕式化學蝕刻。它提供精確的幹等離子體蝕刻功能,包括各向同性、定向和非定向蝕刻。A9608 PTX具有高功率射頻發生器、變頻發生器、可編程多軸氣體輸送子系統和先進的熱均勻性子系統。這允許精確控制和調整工藝參數,如蝕刻選擇性和步長覆蓋,以實現卓越的特征控制。它還有一個高分辨率的檢查單元，具有多個圖像捕獲光學和視頻選項。LAM RESEARCH A 9608 PTX具有很高的可靠性和高效率,並且具有多種配置,無論客戶的流程要求如何,都能滿足客戶的需求。其集成的過程控制軟件包允許實時蝕刻過程中對所有過程參數進行監控，並且具有低維護操作。該機還可以支持最多八種基材的批處理。LAM RESEARCH A9608 PTX易於安裝,用途廣泛,支持多種蝕刻工藝,包括各向異性幹蝕刻、濕化學和雙灌註氧化。它非常可靠，能夠批量蝕刻多達八次測量。等離子體源具有自動端點檢測工具，以確保基板沒有過度蝕刻。可調氣流確保蝕刻速率的均勻性，不分基材類型，導致返工較少，產量較高，循環時間縮短。它是納米技術行業的一種強大而高效的蝕刻工具，可用於各種應用。
還沒有評論