二手 LAM RESEARCH Alliance 4.1 #9182310 待售
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單擊可縮放
ID: 9182310
晶圓大小: 6"
優質的: 1996
Etcher, 6"
(3) System monitors
TM LID: Cylinder open / Close (Manual type)
Wafer present sensors (WPS)
TM & VCE Pump option: Single pump type
Fab clean room configuration: Bulkhead
Robot:
BROOKS / MTR 5 / (2) Blades
Load lock:
Manual door
VCE Elevator: Bellows seal
Mapping sensor included
Cassette type: 25 Slot cassette
VCE Vacuum isolation valves
TM Vacuum isolation valves
TM Pneumatic valves
Transport system control:
Transport VME
Multiplexer PCB
Aux position 1: Aligner
Chamber position 2:
4420XL, 6"
Chamber process: Poly
Endpoint type: Photo diode
Turbo pump: SEIKOSEIKI STP-H200C
RF Generator TCP: ADVANCED ENERGY RFG1250 13.56 MHz
Chamber position 3:
4420XL, 6"
Chamber process: Poly
Endpoint type: Photo diode
Turbo pump: SEIKOSEIKI STP-H200C
RF Generator TCP: ADVANCED ENERGY RFG1250 13.56 MHz
1996 vintage.
LAM RESEARCH Alliance 4.1是一款最先進的蝕刻/asher設備，旨在滿足最嚴格的半導體制造要求。該系統利用先進的技術,在蝕刻和灰化過程中提供最高水平的精度、速度和靈活性,同時保持卓越的吞吐量。LAM RESEARCH Alliance 4.1的核心是其先進的高容量沈積單元，該單元可實現高層沈積速率，同時實現無與倫比的均勻蝕刻。本機利用多級刀具架構，取得優異的蝕刻效果。它還采用熱氣和冷氣調諧系統的組合，以便在低溫和高溫下保持最佳蝕刻速率。該資產還包括一個獨特的氣體流量監測儀，用於檢測氣體泄漏或不規範情況。LAM RESEARCH Alliance 4.1通過使用高級工藝開發工具集（PDT）確保卓越的工藝控制。此工具集使用戶能夠開發和調整其流程以滿足特定的需求和參數。用於評估和調諧室內參數如壓力、流量、溫度、氣體混合物等，以實現完美、均勻的蝕刻工藝。此工具還提供實時反饋模型,允許在發生任何與流程相關的問題時快速發生故障。LAM RESEARCH Alliance 4.1還提供市場上無與倫比的卓越安全功能。先進的晶片安全設備可確保晶片在整個蝕刻過程中不會暴露於破壞性的能量水平。此外，還包括多個下遊過濾器，以防止下遊汙染的可能性。最後，一個可靠可靠的控制系統可確保該過程不會因任何不可預見的單元故障而中斷。LAM RESEARCH Alliance 4.1的總體設計和功能使其成為市場上競爭最激烈的蝕刻/asher系統之一。它的精確度、速度和靈活性使其能夠處理任何蝕刻和灰化任務。因此，LAM RESEARCH Alliance 4.1是任何半導體制造需求的最佳選擇。
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