二手 LAM RESEARCH Alliance 4.1 #9182311 待售
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單擊可縮放
ID: 9182311
晶圓大小: 6"
優質的: 1996
Etcher, 6"
(3) System monitors
TM LID: Cylinder open/close (manual type)
Wafer present sensors (WPS)
TM & VCE Pump option: Single pump type
Fab clean room configuration: Bulkhead
Robot:
BROOKS / MTR 5 / (2) Blades
Aux position 1: Aligner
Transport system control:
Transport VME
Multiplexer PCB
Load lock:
Auto door
VCE Elevator: Bellows seal
Mapping sensor includes
Cassette type: (25) Slots
VCE Vacuum isolation valves
TM Vacuum isolation valves
TM Pneumatic valves
Chamber position 1:
9400SE, 6"
Chamber process: Poly
Turbo pump: SEIKO SEIKI STP-A1303
VAT 65 Pendulum valve
RF Generator TCP: ADVANCED ENERGY RFG1250 13.56MHz
RF Generator bottom: ADVANCED ENERGY Halo 1250 13.57MHz
Chamber position 2:
9400SE, 6"
Chamber process: Poly
Turbo pump: SEIKO SEIKI STP-A1303 (Turbo missing)
VAT 65 Pendulum valve (VAT Valve controller missing)
RF Generator TCP: ADVANCED ENERGY RFG1250 13.56MHz
Chamber position 3:
9400SE, 6"
Chamber process: Poly
Turbo pump: SEIKO SEIKI STP-A1303 (Turbo controller missing)
VAT 65 Pendulum valve (VAT Valve controller missing)
RF Generator TCP: ADVANCED ENERGY RFG1250 13.56MHz
Missing part:
Position 2 / 3: RF Generator bottom: ADVANCED ENERGY Halo 1250 13.57MHz
1996 vintage.
LAM RESEARCH Alliance 4.1是一種蝕刻或灰化設備，專為制造電子和半導體元件而設計。它是在單個或多個基板上沈積多個特征的先進平臺。Alliance 4.1具有高性能、經濟高效且技術先進的蝕刻室。它可為各種工藝、材料和應用程序提供可靠可靠的蝕刻工藝性能。Alliance 4.1具有卓越的蝕刻能力,能夠以市場領先的精度和高精度沈積特征。這是通過先進的上下電極結構和使用精確的材料管理系統實現的。該系統采用倒角基板取向，以確保精確的蝕刻結果。此外,Alliance 4.1還具有集成的用戶界面和高級控制功能。該單元設計為允許用戶與蝕刻室輕松交互，包括對蝕刻過程的特定參數進行編程。此高級控制機器可用於確保在滿足成本和過程目標的同時實現所需的結果。Alliance 4.1采用了一個超薄膜精密蝕刻室，能夠生產小於5納米的特性。它還提供適合滿足高精度需求的蝕刻工藝，同時保持成本效益。此外,Alliance 4.1蝕刻室的設計可提供最佳性能和可靠性,並且維護需求最小。該工具的設計能夠快速響應過程更改並確保可重復的過程結果。此外,資產的維護要求極少,因此對於成本敏感的應用程序來說,它是一個極好的選擇。總之,LAM RESEARCH Alliance 4.1是一種經濟高效且高性能的蝕刻模型,能夠以市場領先的精確度和精確度在單個或多個基板上存儲多個特征。其集成的用戶界面和先進的控制設備提供了精確編程蝕刻空間並確保達到所需效果的能力。因此,Alliance 4.1是高精度、對成本敏感的應用程序的絕佳選擇。
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