二手 LAM RESEARCH Alliance 6 #9145733 待售
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單擊可縮放
ID: 9145733
晶圓大小: 8"
優質的: 2000
Transport module, 8"
Robot:
Position: Transfer
Maker: BROOKS
Model: Mag 7
(2) Blades
System monitor:
(3) Monitors
Load lock:
Load lock type: Auto door
VCE Elevator: Bellows
Mapping sensor
VCE Gate valve
VCE Vacuum isolation valves
TM Vacuum isolation valves
TM Pneumatic valves
Cassette type:
(25) Slot cassettes
TM Lid:
Pneumatic cylinder lift
Up / Down actuate switch
Transport system control:
Transport VME ( MVME 147-011, VME335, DIOXVME-240 )
Multiplexer PCB
Light tower PCB
Chamber:
Position I:
Chamber type: Empty
Position II:
Chamber type: Empty
Position III:
Chamber type: Empty
Position IV:
Chamber type: Empty
Aux Position I:
Chamber type: Aligner
AUX Position II:
Chamber type: Empty
Gas boxes:
PM 1
PM 4
PM 2:
MFC Channel Gas MFC Type MFC Size (SCCM)
AC 01 - CHA C4F8 FC-D980CU 50
AC 02 - CHA O2 FC-D780CU 100
AC 03 - CHA CHF3 FC-D780CU 50
AC 04 - CHA CF4 FC-D780CU 200
AC 05 - CHA O2 (30%) HE FC-D780CU 100
AC 06 - CHA C4F6 FC-D780CU 50
AC 07 - CHA CH2F2 FC-D780CU 100
AC 08 - CHA CF4 FC-D780CU 1000
AC 09 - CHA H2 FC-D780CU 1500
AC 10 - CHA Ar FC-D780CU 1000
AC 11 - CHA N2 FC-D780CU 1000
AC 12 - CHA O2 FC-D780CU 3000
PM 3:
MFC Channel Gas MFC Type MFC Size (SCCM)
AC 01 - CHA C4F8 FC-D780CU 50
AC 02 - CHA O2 FC-D780CU 100
AC 03 - CHA CHF3 FC-D780CU 50
AC 04 - CHA CF4 FC-D980CU 200
AC 05 - CHA O2 (30%) HE FC-D780CU 100
AC 06 - CHA C4F6 FC-D780CU 50
AC 07 - CHA CH2F2 FC-D780CU 100
AC 08 - CHA CF4 FC-D780CU 1000
AC 09 - CHA H2 FC-D780CU 1500
AC 10 - CHA Ar FC-D780CU 1000
AC 11 - CHA N2 FC-D780CU 1000
AC 12 - CHA O2 FC-D780CU 3000
Standard signal tower
Wafer present sensors (WPS)
TM & VCE Pump: Single pump type
2000 vintage.
LAM RESEARCH Alliance 6是一款獨立的蝕刻器和asher，設計用於半導體行業的大批量生產精密應用。它為研發和生產環境提供了一個高效、經濟高效的平臺。Alliance 6提供了多種功能,可實現最佳處理效率、高性能和均勻性。LAM RESEARCH Alliance 6是一種多室設備,具有一個自動轉運站,最多可配備六個盒式磁帶,以提高吞吐量。它提供了均勻的垂直和水平輪廓,可用於對峙、介電和各向同性蝕刻應用。系統設計還提供了廣泛的蝕刻斜率控制和均勻性，以及優化蝕刻工藝控制參數的能力。該裝置還具有廣泛的特點，旨在控制顆粒汙染和防止過程中的顆粒汙染。它采用自動高真空排氣機，不斷更新工藝環境，防止工藝副產品積聚。該工具還具有可選的洗滌器-真空特性，可有效地從腔壁中去除顆粒。Alliance 6的設計是在3英寸或4英寸的300 mm晶圓載波資產中操作，它具有一個自動進紙器來裝載晶圓和一個機器人手臂來卸載它們。它采用了平行和非平行腔室配置的組合，以達到均勻和一致的厚度。它還采用了多通道、雙極性RF功率，保證了低缺陷率的均勻蝕刻。LAM RESEARCH Alliance 6具有可配置的陰極布置，主陰極站同時具有用於優化試金屬蝕刻的壓板和柵極。該模型采用高級診斷,包括晶圓映射,以確保精確的蝕刻回操作.它還具有高溫控制、快速陰極旋轉和化學輸送設備的精密化學控制功能。Alliance 6利用先進的軟件在整個運行過程中控制過程參數，並提供持續的室內性能反饋。這樣可以連續優化工藝參數和統一的輪廓結果。該系統還設計用於通過互聯網和內聯網進行遠程監控和數據管理,以及將配方和性能數據傳輸到PC或網絡數據庫的能力。
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