二手 LAM RESEARCH Alliance A4 #9195947 待售

LAM RESEARCH Alliance A4是一種蝕刻/asher設備，旨在為制造各類半導體器件提供先進的蝕刻解決方案。該系統設有兩個獨立可控的等離子體處理室，主室包含一個平面源和一個輔助室，用於原位清洗和/或額外蝕刻處理。平面源提供絕佳的等離子體密度均勻性，使半導體器件具有高精度和重復性的精確蝕刻。此外，該裝置還配有反應冷卻室，確保在蝕刻過程中的最佳熱控制。Alliance A4利用獨特的高密度等離子體源，它能夠在晶圓表面產生均勻的等離子體密度。這使得等離子體在蝕刻過程中可以到達整個晶片表面，從而產生高拱形蝕刻和高晶片均勻性。此外，LAM RESEARCH Alliance A4利用iVPD™ MassFlow™，這是一種專利質量流控制器技術，可調節加工氣體並優化蝕刻劑在晶圓表面的分布。這確保了整個蝕刻過程中精確的材料蝕刻速率和精確的厚度控制。Alliance A4還有一個集成的晶片運輸機器，它在主室和輔室之間運輸晶片進行清潔和額外的蝕刻處理。輔助室配有第二個高密度蝕刻源以及一個額外的頻率源，可用於晶圓的額外蝕刻、清潔或引發。集成傳輸工具可確保晶圓的精確對齊和晶圓的最佳處理,從而實現一致的高質量蝕刻性能。LAM RESEARCH Alliance A4旨在滿足廣泛的工藝要求，適用於各種蝕刻應用，包括深反應性離子蝕刻（DRIE）、等離子體蝕刻、表面鈍化。此外,它還具有一系列高級流程控制功能,包括高級流程監控、遠程腔室診斷（RCD）和具有實時反饋的RF電源監視器。這些高級功能的組合可以實現最大的過程控制和可靠的處理性能。