二手 LAM RESEARCH Alliance A6 9400 DFM #9027019 待售

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圖為 已使用的 LAM RESEARCH Alliance A6 9400 DFM 待售
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已售出
蝕刻機/ 光阻清洗機
製造商
LAM RESEARCH
模型
Alliance A6 9400 DFM
ID: 9027019
Poly etcher Software version: A2.1.1-009 Main body: Alliance 6 Process module 1: Alliance stripper Process module 2: 9400 DFM Process module 3: 9400 DFM Process module 4: Alliance stripper Monitor rack: Alliance PC and T-box, Japanese type (mm screw) Chiller: Risshi EX-2004 UPS: Nemic Lambda PS 1210 Turbo pump and controller: PM-2 turbo pump: Alcatel ATH-1600M PM-2 controller: Alcatel ATC-1300M/1600M PM-3 turbo pump: Alcatel ATH-1600M PM-3 controller: Alcatel ATC-1300M/1600M Dry pump: Transfer module: Edwards iQDP80 Loadlock: Edwards iQDP80 PM-1: Edwards iQDP80 / QMB500F PM-2: Edwards iQDP80 PM-3: Edwards iQDP80 PM-4: Edwards iQDP80 / QMB500 RF generator: PM-2 top: Advanced Energy RFDS PM-2 bottom: Advanced Energy RFG1250 Halo PM-3 top: Advanced Energy RFDS PM-3 bottom: Advanced Energy RFG1250 Halo MFC: PM-1: Gas 1: AERA, FC-D980C, 02, 5000 SCCM Gas 2: AERA, FC-D980C, N2, 1000 SCCM PM-2: Gas 1: AERA, FC-D980C, Cl2, 200 SCCM Gas 2: AERA, FC-D980C, HBr, 500 SCCM Gas 3: AERA, FC-D980C, O2, 10 SCCM Gas 4: AERA, FC-D980C, He, 200 SCCM Gas 5: AERA, FC-D980C, SF6, 200 SCCM Gas 6: AERA, FC-D980C, O2, 200 SCCM Gas 7: AERA, FC-D980C, CF4, 200 SCCM Gas 8: AERA, FC-D980C, CHF3, 200 SCCM PM-3: Gas 1: AERA, FC-D980C, Cl2, 200 SCCM Gas 2: AERA, FC-D980C, HBr, 500 SCCM Gas 3: AERA, FC-D980C, O2, 10 SCCM Gas 4: AERA, FC-D980C, He, 200 SCCM Gas 5: AERA, FC-D980C, SF6, 200 SCCM Gas 6: AERA, FC-D980C, O2, 200 SCCM Gas 7: AERA, FC-D980C, CF4, 200 SCCM Gas 8: AERA, FC-D980C, CHF3, 200 SCCM PM-4: Gas 1: SAM, SFC480E, O2, 5000 SCCM Gas 2: AERA, FC-D980C, N2, 1000 SCCM 2001 vintage.
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LAM RESEARCH Alliance A6 9400 DFM 蝕刻器/asher是一種先進的蝕刻工藝工具，用於應用金屬、玻璃、介電材料或光刻膠等材料的薄膜圖樣。它允許在廣泛的特定過程中對任何材料或基板進行圖樣化沈積和蝕刻。LAM RESEARCH ALLIANCE A6 9400DFM采用直寫電子束光刻、反應性離子蝕刻（RIE）、目測、真空熱簇（VTC）處理、火焰處理技術進行產品蝕刻沈積工藝。該工具的工作原理是將電子束聚焦在要陣列化的材料上。這導致材料在許多很小的區域被熔化，從而產生一種液滴的模式。此後，發生化學蝕刻過程，導致液滴散布在材料上，形成納米大小特征的圖案。創建圖樣後，使用反應性離子蝕刻（RIE）工藝進一步細化和清潔圖樣。這涉及到利用電場推動基材上的反應性離子，去除高度局部化的斑點，然後通過使用進一步類型的真空處理、火焰處理和目視檢查等方式對其進行清理。Alliance A6 9400 DFM是一款極其精確的蝕刻器/asher,專為實現最佳性能和控制而構建。它能夠產生低至10納米的圖樣，並被廣泛用於半導體制造、MEMS生產、薄膜沈積等行業。該工具還能夠支持偏置、微加工、致密化和納米線成型等特殊工藝，使其成為各種復雜作業的理想選擇。ALLIANCE A6 9400DFM配備了圖像校正系統，能夠對小至1納米的特征進行精確的彈道分層和分辨率。該工具還包括自動化標線程序、真空熱聚類（VTC）處理、基於原位PC的算法控制等多種高級功能。LAM RESEARCH Alliance A6 9400 DFM極為用戶友好，其直觀的編程界面使其易於操作和修改蝕刻過程。LAM RESEARCH ALLIANCE A6 9400DFM 蝕刻器/asher是一種先進、精確的工具，用於在各種材料上應用精確的薄膜圖案。它的功能和先進的特性使其成為微電子、半導體和MEMS行業中私人或商業應用的理想選擇。Alliance A6 9400 DFM 蝕刻器/asher是一種極其用戶友好的工具,其直觀的編程界面和高級功能使蝕刻過程更加高效和準確。
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